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龙图腾网获悉复旦大学申请的专利一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119882358B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510060753.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法是由陈秋成;陈宜方设计研发完成，并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法在说明书摘要公布了：本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法。本发明通过在已有结构周围引入辅助图案，使得辅助图案与顶层光刻胶共同形成保护屏障，有效覆盖结构的侧面，将大面积挡光区套刻至光刻胶浸润性差的工作区上，确保硬X射线光子筛工作区在加工过程中不受损害，从而保证最终产品的高性能和稳定性；具体包括器件的工作区、辅助图案及挡光区的加工，并在薄膜窗口上完成；其工艺流程包括光刻、金属化、去胶、套刻、金属化和去胶。本发明方法具有提高套刻精度、节约电子束光刻时间、缩短工艺时间等优势；适用于对生物细胞、有机材料及介质材料等进行硬X射线高衬度成像。

本发明授权一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法在权利要求书中公布了：1.一种基于图案辅助的大面积挡光区套刻方法，其特征在于，通过在已有结构周围引入辅助图案，使得辅助图案与顶层光刻胶共同形成保护屏障，有效覆盖结构的侧面，将大面积挡光区套刻至光刻胶浸润性差的工作区上，确保硬X射线光子筛工作区在加工过程中不受损害，从而保证最终产品的高性能和稳定性；具体包括器件的工作区、辅助图案及挡光区的加工，并在薄膜窗口上完成；其工艺流程包括光刻、金属化、去胶、套刻、金属化和去胶；其中： 所述器件的工作区为硬X射线光子筛的柱状结构区域，具有较差的光刻胶浸润性；该工作区结构包括光子筛、菲涅尔波带片光学结构或其他带有一定功能的低光刻胶浸润性结构； 所述辅助图案的形状设计通过从外部包围工作区的方式进行，以确保在套刻后，金属化后的辅助图案与未浸润但覆盖在工作区和辅助图案顶部的光刻胶共同封装工作区结构； 辅助图案从外部包围工作区，使得工作区在光刻后得到有效封装；辅助图案的形状依据工作区的几何形状进行设计；辅助图案是连续的或间断的；若存在多个工作区，辅助图案的数量为一个或多个； 所述工作区及辅助图案在第一次光刻和金属化后加工完成；而大面积的挡光区则在套刻和第二次金属化过程中加工；辅助图案与工作区一同加工完成后，在后续的金属化工艺中，辅助图案能够有效保护工作区，确保工作区的结构完整性。

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