北京中科聚微半导体设备有限公司刘传钦获国家专利权
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龙图腾网获悉北京中科聚微半导体设备有限公司申请的专利一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120545161B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510697288.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机是由刘传钦设计研发完成，并于2025-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机在说明书摘要公布了：本发明公开了一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机，涉及半导体芯片制造技术领域，包括核心组件，所述核心组件包括设置于中部的涡轮，所述涡轮周向阵列固定有翼形结构的叶片，且涡轮底端中部共轴固定有主轴，所述涡轮顶端固定安装有十字架，且十字架四周端部固定安装有防滑凸起。本申请在伯努利吸盘的原理基础上，通过在吸盘出气口处集成涡轮，不仅利用高速射流从排气端开口处锥面与涡轮之间周向分布的出气间隙喷出后形成的均匀气流层产生负压，使得晶圆本体被牢固吸附于十字架之上，而且还利用高速射流对涡轮上的翼形叶片冲击进而产生升力，进而通过十字架带动晶圆本体匀速转动，通过晶圆本体的匀速转动提升刻蚀均匀性，装置间各结构联动性强。
本发明授权一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀均匀的等离子刻蚀机，包括核心组件1，其特征在于，所述核心组件1包括设置于中部的涡轮101，所述涡轮101周向阵列固定有翼形结构的叶片，且涡轮101底端中部共轴固定有主轴102，所述涡轮101顶端固定安装有十字架103，且十字架103四周端部固定安装有防滑凸起104，并且防滑凸起104之上支承有晶圆本体105，所述十字架103一侧端部固定安装有驱动齿臂106，且十字架103另一侧端部固定安装有框架107，所述框架107内部顶端连接有弹簧108，且弹簧108末端弹性连接有振动片109。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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