芯联先锋集成电路制造(绍兴)有限公司张照康获国家专利权
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龙图腾网获悉芯联先锋集成电路制造(绍兴)有限公司申请的专利清洗装置及刻蚀设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223414043U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422738982.6,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型清洗装置及刻蚀设备是由张照康;秦嘉豪设计研发完成,并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗装置及刻蚀设备在说明书摘要公布了:本实用新型涉及半导体制造技术领域,提供了一种清洗装置及刻蚀设备,所述清洗装置包括清洗槽和姿态调整组件;所述清洗槽具有一清洗腔;所述姿态调整组件包括调整件,所述调整件运动的设置于所述清洗腔内;所述调整件被配置为:所述调整件用于支撑于所述清洗槽内的晶圆上,所述调整件相对所述清洗腔运动时,带动所述晶圆自转。该清洗装置,通过姿态调整组件可带动清洗腔内晶圆自转,以调整晶圆的周向位置,进而改变晶圆上刻蚀不均的区域相对晶圆架的位置。晶圆转动后,进入化学槽进行刻蚀时,由于晶圆的周向位置发生改变,其刻蚀不均的区域被改变,故可以改善其刻蚀不均的现象。
本实用新型清洗装置及刻蚀设备在权利要求书中公布了:1.一种清洗装置,其特征在于,包括清洗槽、姿态调整组件和姿态保持组件; 所述清洗槽具有一清洗腔; 所述姿态调整组件包括调整件,所述调整件运动的设置于所述清洗腔内; 所述调整件被配置为:所述调整件用于支撑于所述清洗槽内的晶圆上,所述调整件相对所述清洗腔运动时,带动所述晶圆自转; 所述姿态保持组件至少一部分设置于所述清洗腔内用于在所述晶圆自转时保持所述晶圆直立; 所述姿态保持组件包括设置于所述清洗腔内的第一保持件和第二保持件,所述第一保持件上开设有第一保持槽,所述第一保持槽至少用于容置所述晶圆的边沿;所述第二保持件上开设有第二保持槽,所述第二保持槽至少用于容置所述晶圆的边沿; 所述第一保持件具有第一保持端,所述第一保持槽设置于所述第一保持端,所述第二保持件具有第二保持端,所述第二保持槽设置于所述第二保持端;所述第一保持件和所述第二保持件相对所述清洗槽转动的设置,以使得所述第一保持端和所述第二保持端可相对靠近或远离。
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