芯纳(扬州)微电子设备有限公司戚增欣获国家专利权
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龙图腾网获悉芯纳(扬州)微电子设备有限公司申请的专利一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223433537U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422726855.4,技术领域涉及:C23C14/56;该实用新型一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统是由戚增欣设计研发完成,并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统,包括:真空腔、真空自动调节阀、高真空插板阀和高真空分子泵,所述高真空分子泵与高真空插板阀固定,所述高真空插板阀与真空自动调节阀通过真空法兰固定,所述真空自动调节阀与真空腔连接;流动微调组件,所述流动微调组件由多组流动部件和驱动部件组成,多组所述流动部件呈对称设置于真空自动调节阀上。本实用新型具备通过真空自动调节阀的设计,调整调节阀主体内部调节挡板的开合角度,来减少高真空分子泵的抽气速度,实现真空度的精确控制,同时通过流动微调组件的设计,可以辅助真空自动调节阀,进一步的提高真空度的精准控制的优点。
本实用新型一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统在权利要求书中公布了:1.一种用于高真空镀膜设备的真空度自动调节系统,其特征在于:包括: 真空腔1、真空自动调节阀2、高真空插板阀3和高真空分子泵4,所述高真空分子泵4与高真空插板阀3固定,所述高真空插板阀3与真空自动调节阀2通过真空法兰固定,所述真空自动调节阀2与真空腔1连接; 流动微调组件5,所述流动微调组件5由多组流动部件和驱动部件52组成,多组所述流动部件呈对称设置于真空自动调节阀2上,且驱动部件52设置于真空自动调节阀2端部中部,多组所述流动部件均与驱动部件52传动连接,从而多组流动部件均通过驱动部件52在真空自动调节阀2端部转动运动设置。
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