昭和电工材料株式会社花野真之获国家专利权
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龙图腾网获悉昭和电工材料株式会社申请的专利研磨液、研磨液套剂， 研磨方法及缺陷抑制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113661563B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980095042.9，技术领域涉及：H01L21/304；该发明授权研磨液、研磨液套剂， 研磨方法及缺陷抑制方法是由花野真之;高桥寿登;泷泽寿夫设计研发完成，并于2019-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本研磨液、研磨液套剂， 研磨方法及缺陷抑制方法在说明书摘要公布了：一种研磨液，其含有磨粒、第一含氮化合物、第二含氮化合物及水，所述第一含氮化合物包含选自由I具有环内含有1个氮原子的芳香环和羟基的化合物、II具有环内含有1个氮原子的芳香环和含有氮原子的官能团的化合物、III具有环内含有2个氮原子的6元环的化合物、IV具有苯环和环内含有氮原子的环的化合物、及V具有键合有2个以上的含有氮原子的官能团的苯环的化合物组成的组中的至少一种，所述第二含氮化合物的HLB值为7以上。
本发明授权研磨液、研磨液套剂， 研磨方法及缺陷抑制方法在权利要求书中公布了：1.一种研磨液，其含有磨粒、第一含氮化合物、第二含氮化合物及水，其中， 所述第一含氮化合物包含选自由I具有环内含有1个氮原子的芳香环和羟基的化合物、II具有环内含有1个氮原子的芳香环和含有氮原子的官能团的化合物、III具有环内含有2个氮原子的6元环的化合物、IV具有苯环和环内含有氮原子的环的化合物、及V具有键合有2个以上的含有氮原子的官能团的苯环的化合物组成的组中的至少一种， 所述第二含氮化合物的HLB值为7以上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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