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龙图腾网获悉吉林省巨程智造光电技术有限公司申请的专利一种半导体光刻设备的校准方法及校准系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120578019B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511080595.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种半导体光刻设备的校准方法及校准系统是由杨东来;高斯凯;张慧;邢闯;王珊珊;李薇设计研发完成，并于2025-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体光刻设备的校准方法及校准系统在说明书摘要公布了：本申请涉及光刻机控制技术领域，尤其涉及一种半导体光刻设备的校准方法及校准系统。其中，校准方法包括以下步骤：在柔性衬底的背面投影光栅校准图案，采集得到衬底背面图像；通过相位解包裹算法确定所述衬底背面图像上各个像素点的深度值；获取柔性衬底正面的衬底正面图像；根据所述衬底正面图像上各个像素点三维坐标对所述衬底正面图像进行修正，得到虚拟正面图像；通过所述虚拟正面图像和掩模图像进行对齐；在对齐后将掩模图像转印到柔性衬底上。本申请对褶皱变形的第一对准标记区域进行拉伸展平，使得光刻设备的对准算法能够对齐衬底正面图像上的第一对准标记和掩模图像上的第二对准标记，保证柔性衬底的多层电路不发生错位。

本发明授权一种半导体光刻设备的校准方法及校准系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体光刻设备的校准方法，其特征在于，包括以下步骤： 在柔性衬底的背面投影光栅校准图案，采集得到衬底背面图像； 通过相位解包裹算法确定所述衬底背面图像上各个像素点的深度值； 获取柔性衬底正面的衬底正面图像；衬底正面上设置有第一对准标记，所述衬底正面图像包括有M个第一对准标记的区域图像，M为大于等于1的整数，所述第一对准标记用于掩模图像对齐； 根据所述衬底正面图像上各个像素点三维坐标对所述衬底正面图像进行修正，得到虚拟正面图像； 通过所述虚拟正面图像和掩模图像进行对齐； 在对齐后将掩模图像转印到柔性衬底上； 所述获取柔性衬底正面的衬底正面图像，具体包括： 对柔性衬底正面进行拍摄，得到所述衬底正面图像； 获取所述衬底背面图像的每个像素点的深度值； 将所述衬底背面图像的每个像素点的深度值编码到所述衬底正面图像的对应像素点，得到所述衬底正面图像的像素点的三维坐标； 根据所述衬底正面图像上各个像素点三维坐标对所述衬底正面图像进行修正，得到虚拟正面图像，具体包括： 通过边缘轮廓检测算法识别所述衬底正面图像上的变形的所述第一对准标记； 对变形的所述第一对准标记所在区域进行图像分割，得到变形区域图像； 获取所述变形区域图像在所述衬底正面图像上对应区域的各个像素点的三维坐标； 分别以所述变形区域图像的中心为原点，向四周进行图像拉伸得到虚拟区域图像； 将所述虚拟区域图像拼接到所述衬底正面图像上，得到所述虚拟正面图像。

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