中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所李逸凡获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请的专利基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223449849U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422847776.9，技术领域涉及：G01N23/2273；该实用新型基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置是由李逸凡;黄荣;万雪颖;崔义设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置，包括：近常压XPS腔体；样品台，布置在近常压XPS腔体内；若干微漏阀进气系统，与若干进气口一一对应，每一微漏阀进气系统连接至对应的进气口；抽真空系统，连接出气口；外置光源，布置在近常压XPS腔体外，外置光源的工作端指向样品台设置；X射线枪，工作端插入近常压XPS腔体内部指向样品台设置；能量分析器，采集头插入近常压XPS腔体内部指向样品台设置；分析设备，与能量分析器的信号输出端电性连接。本申请实现了反应气氛中光催化的原位XPS研究，可以真实反映光照条件下反应气氛中催化剂表面的化学状态和结构。
本实用新型基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置在权利要求书中公布了：1.一种基于近常压X射线光电子能谱的光催化原位测试装置，其特征在于，包括： 近常压XPS腔体，具有若干进气口和若干出气口； 样品台，布置在所述近常压XPS腔体内，用于承载样品； 若干微漏阀进气系统，与所述若干进气口一一对应，每一所述微漏阀进气系统连接至对应的所述进气口； 抽真空系统，连接所述出气口； 外置光源，布置在所述近常压XPS腔体外，所述外置光源的工作端指向所述样品台设置； X射线枪，工作端插入所述近常压XPS腔体内部指向所述样品台设置； 能量分析器，采集头插入所述近常压XPS腔体内部指向所述样品台设置； 分析设备，与所述能量分析器的信号输出端电性连接。
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