浙江创芯集成电路有限公司张耀轩获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利湿化学刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223450855U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422944795.3，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型湿化学刻蚀设备是由张耀轩;杨小龙;张一帆;方浩设计研发完成，并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本湿化学刻蚀设备在说明书摘要公布了：本公开提供一种湿化学刻蚀设备，与供液装置耦接，包括第一管路、第二管路、第一阀门、第二阀门和第三阀门，第一管路，耦接于所述供液装置与湿化学刻蚀设备的循环区域之间；第一阀门，设置于所述第一管路内，被配置为控制液体流向所述第二管路和或所述第二阀门；第二阀门，设置于所述第一阀门的下方，且所述第一阀门和所述第二阀门之间保持预设间距，被配置为控制流向所述循环区域的液体；所述第二管路，耦接于所述第一阀门与液体处理装置之间；所述第三阀门，设置于所述第二管路内，被配置为控制流向所述液体处理装置的液体的流量。采用上述方案，可以降低清洗药液污染湿化学刻蚀设备的循环区域的概率，从而可以提高半导体器件的良品率。
本实用新型湿化学刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种湿化学刻蚀设备，其特征在于，与供液装置耦接，包括：第一管路、第二管路、第一阀门、第二阀门和第三阀门，其中： 所述第一管路，耦接于所述供液装置与湿化学刻蚀设备的循环区域之间； 所述第一阀门，设置于所述第一管路内，被配置为控制液体流向所述第二管路和或所述第二阀门； 所述第二阀门，设置于所述第一阀门的下方，且所述第一阀门和所述第二阀门之间保持预设间距，被配置为控制流向所述循环区域的液体； 所述第二管路，耦接于所述第一阀门与液体处理装置之间； 所述第三阀门，设置于所述第二管路内，被配置为控制流向所述液体处理装置的液体的流量。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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