杭州驭光光电科技有限公司;杭州国超光电技术有限公司王燚言获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州驭光光电科技有限公司;杭州国超光电技术有限公司申请的专利衍射光学元件、包括其的光学组件以及基准线投射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110749948B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911119913.4，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权衍射光学元件、包括其的光学组件以及基准线投射装置是由王燚言;尹晓东设计研发完成，并于2019-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本衍射光学元件、包括其的光学组件以及基准线投射装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于投射出基准线的衍射光学元件，所述衍射光学元件包括成二维阵列状周期排布的多个微结构图案单元，每个所述微结构图案单元的相位分布被配置成，接收激光并调制所述激光投射出所述基准线，其中所述衍射光学元件在至少一个方向上的视场角大于等于90度。本发明还涉及一种包括该衍射光学元件的光学组件。本发明提出了一种衍射光学元件DOE，代替传统的折射光学元件，形成所需要的激光基准线。因为DOE具有极高的设计自由度，目标光场不局限于一字线、十字线，还可以设计更多复杂的激光基准线，例如网格线。对于激光标准线为十字线的情况，只需要设计一片DOE即可实现，不需要像两个折射光学元件那样进行垂直方向的对准安装。
本发明授权衍射光学元件、包括其的光学组件以及基准线投射装置在权利要求书中公布了：1.一种用于投射出基准线的衍射光学元件，其特征在于， 所述衍射光学元件包括成二维阵列状周期排布的多个微结构图案单元，每个所述微结构图案单元的相位分布被配置成，接收激光并调制所述激光投射出所述基准线，其中所述衍射光学元件在至少一个方向上的视场角大于等于90度； 所述微结构图案单元的周期的尺寸小于所述激光在所述衍射光学元件上的入射光场的尺寸；所述衍射光学元件配置成使得：照射在多个所述微结构图案单元上的所述入射光场，经所述微结构图案单元的衍射调制以及多个所述微结构图案单元之间的干涉调制后形成呈点状线的基准线，以抑制所述基准线的线条的颗粒状暗斑，提高所述基准线的清晰度； 所述衍射光学元件配置成对所述基准线的边缘区域进行亮度补偿，以对所述基准线在平面上呈中间亮四周暗的不均匀分布进行畸变矫正，使得所述基准线在视场范围内呈现出亮度均匀的直线。
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