东京毅力科创株式会社山岸幸司获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112992643B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011451572.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法是由山岸幸司;白泽大辅设计研发完成，并于2020-12-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和等离子体处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法，能够抑制副产物的向腔室内的未暴露于等离子体和为生成该等离子体而施加的高频电力的区域的沉积。腔室用于对基板进行等离子体处理。加热器与腔室内的未暴露于等离子体和为生成该等离子体而施加的高频电力的区域相对应地配置。加热器电源被设为能够向加热器供给脉冲状的电力。
本发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，具备： 腔室，其用于对基板进行等离子体处理； 支承台，其支承所述基板； 排气口，其用于排出所述腔室内的气体；以及 隔板，其配置于所述腔室的内侧面与所述支承台之间，将所述腔室划分为用于处理所述基板的处理空间和包括所述排气口的排气空间； 加热器，其配置于所述排气空间； 加热器电源，其能够向所述加热器供给脉冲状的电力；以及 控制部，其控制所述加热器电源以向所述加热器供给电力，直到所述排气空间变为使附着于所述排气空间内的副产物挥发的温度为止。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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