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龙图腾网获悉信利(惠州)智能显示有限公司申请的专利低温多晶硅薄膜及其制备方法、阵列基板、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068307B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111357496.4，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权低温多晶硅薄膜及其制备方法、阵列基板、显示装置是由陈卓;江华玉;刘伟设计研发完成，并于2021-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本低温多晶硅薄膜及其制备方法、阵列基板、显示装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种低温多晶硅薄膜的制备方法，包括以下步骤：S1，在基板上制作出非晶硅层；S2，第一激光器发出的第一激光光束透过具有曝光图形的掩膜版照射到所述非晶硅层，第二激光器发出的第二激光光束照射到所述非晶硅层，第一激光光束和第二激光光束协同作用在所述非晶硅层形成低温区和高温熔融区；S3，所述低温区向所述高温熔融区重结晶。本发明还涉及一种低温多晶硅，其由上述的制备方法制备得到。本发明还涉及一种阵列基板，包括低温多晶硅薄膜晶体管，低温多晶硅薄膜晶体管包括上述的低温多晶硅。本发明还涉及一种显示装置，包括上述的阵列基板。

本发明授权低温多晶硅薄膜及其制备方法、阵列基板、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种低温多晶硅薄膜的制备方法，其特征在于， 所述制备方法包括以下步骤： S1，在基板的上表面依次形成氮化硅层、氧化硅层，在所述氧化硅层上形成非晶硅层； S2，第一激光器发出的第一激光光束透过具有曝光图形的掩膜版照射到所述非晶硅层，第二激光器发出的第二激光光束照射到所述非晶硅层，第一激光光束和第二激光光束协同作用在所述非晶硅层形成低温区和高温熔融区； S3，所述低温区向所述高温熔融区重结晶，制备所述低温多晶硅薄膜； 所述步骤S2包括： S21，在需要重结晶的所述非晶硅层的上方设置所述掩膜版； S22，所述第一激光器发出的所述第一激光光束透过具有曝光图形的所述掩膜版照射到所述非晶硅层，所述第二激光器发出的所述第二激光光束不经过所述掩膜版直接照射到所述非晶硅层； S23，照射到所述非晶硅层的所述第一激光光束的激光功率相比于照射到所述非晶硅层的所述第二激光光束优先达到上升沿； S24，照射到所述非晶硅层的所述第一激光光束的激光功率维持一段时间的峰值功率后，照射到所述非晶硅层的所述第二激光光束达到上升沿； S25，照射到所述非晶硅层的所述第二激光光束相比于照射到所述非晶硅层的所述第一激光光束优先达到下降沿； S23，循环S23至S25，第一激光光束通过掩膜版在非晶硅层上形成图案化，包括高能量照射区域和低能量照射区域，第一激光光束和第二激光光束协同作用使得高能量照射区域的非晶硅会完全熔融形成高温熔融区、低能量照射区域的非晶硅处于非完全熔融状态形成低温区； 所述第一激光光束和所述第二激光光束均为脉冲激光光束，所述第一激光光束和所述第二激光光束同时射向非晶硅层并且所述第一激光光束和所述第二激光光束的周期和频率相同，所述第一激光光束和所述第二激光光束的周期均为T，在一个周期T内包括一个上升沿和一个下降沿，所述第一激光光束的波长为308nm、脉宽为10-50ns； 所述第一激光光束的单个脉冲能量为E1、峰值功率为P1、激光脉冲波形处于峰值的持续时间为tp1，所述第二激光光束的单个脉冲能量为E2、峰值功率为P2、激光脉冲波形处于峰值的持续时间为tp2，满足：E2大于E1、E2小于非晶硅层被熔融所需的能量、E2小于非晶硅层被熔融所需的能量、E1+E2大于非晶硅层被熔融所需的能量、P1小于P2、tp1大于tp2； 在一个周期T内： 所述第一激光光束相对于所述第二激光光束优先到达上升沿，所述第一激光光束的激光功率从较低功率迅速上升至峰值功率P1，在所述第二激光光束到达上升沿前所述第一激光光束对非晶硅层进行预加热； 所述第二激光光束到达上升沿，所述第二激光光束的激光功率从较低功率迅速上升至峰值功率P2，此时在所述第一激光光束和所述第二激光光束协同作用下，非晶硅层上的高能量照射区域处于完全熔融状态、低能量照射区域处于非完全熔融状态； 所述第二激光光束相对于所述第一激光光束优先到达下降沿，所述第二激光光束的激光功率从峰值功率P2迅速下降至较低功率，低能量照射区域还没完全熔融的固态硅粒为晶核开始再结晶，而尚处于峰值功率的所述第一激光光束对非晶硅层进行加热保温； 所述第一激光光束到达下降沿后激光功率从峰值功率P1迅速下降至较低功率。

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