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龙图腾网获悉中山新诺科技股份有限公司申请的专利一种3D曝光系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690574B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011614050.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种3D曝光系统及方法是由敦士军;梅文辉;杜卫冲设计研发完成，并于2020-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种3D曝光系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种3D曝光系统及方法。所述3D曝光系统包括：第一光学引擎，用于生成第一曝光图案并将所述第一曝光图案投影到所述3D基板700的第一面，所述第一光学引擎包括DMD器件400和无掩膜投影装置600，所述DMD器件400生成的像素掩膜图形产生的光输入到所述无掩膜投影装置600，通过无掩膜投影装置600的光作为曝光光束聚焦到所述3D基板700的第一面；其中，所述DMD器件400相对于所述无掩膜投影装置600的光轴倾斜设置，通过无掩膜投影装置600的光的焦平面为斜面，所述斜面相对于所述无掩膜投影装置600的光轴的倾斜角度，等于所述所述DMD器件400相对于所述无掩膜投影装置600的光轴的倾斜角度。

本发明授权一种3D曝光系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种3D曝光系统，其特征在于，包括： 第一光学引擎，其设置在3D基板700的第一侧，用于生成第一曝光图案并将所述第一曝光图案投影到所述3D基板700的第一面，具体地，所述第一光学引擎包括DMD器件400和无掩膜投影装置600，所述DMD器件400用作空间光调制器，所述DMD器件400生成的像素掩膜图形产生的光输入到所述无掩膜投影装置600，通过无掩膜投影装置600的光作为曝光光束聚焦到所述3D基板700的第一面， 光源装置，用于对所述第一光学引擎提供光源； 其中，所述DMD器件400相对于所述无掩膜投影装置600的光轴倾斜设置，通过无掩膜投影装置600的光的焦平面为斜面，所述斜面相对于所述无掩膜投影装置600的光轴的倾斜角度，等于所述所述DMD器件400相对于所述无掩膜投影装置600的光轴的倾斜角度， 所述DMD器件400沿着其倾斜方向分为至少两个DMD区域，分别用于对所述3D基板700的第一侧的相应个数不同高度区间部位进行曝光，以使得不同高度区间部位在一次曝光中都处于最佳焦点的焦深范围以内。

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