广东先导微电子科技有限公司董晨晨获国家专利权
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龙图腾网获悉广东先导微电子科技有限公司申请的专利一种磷化铟晶片的表面处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115020218B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210766540.5，技术领域涉及：H01L21/306；该发明授权一种磷化铟晶片的表面处理方法是由董晨晨;刘良副;郑金龙;马金峰;周铁军设计研发完成，并于2022-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种磷化铟晶片的表面处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种磷化铟晶片的表面处理方法，包括以下步骤：a将抛光、化蜡后的磷化铟晶片采用混合药液进行过药处理，得到处理后晶片；所述混合药液由氧化剂溶液、酸溶液和水配制而成；b将步骤a得到的处理后晶片依次经冲水、甩干，得到清洗检验前的磷化铟晶片。与现有技术相比，本发明提供的磷化铟晶片的表面处理方法是出现在磷化铟晶片清洗检验前的一个重要工艺，该表面处理方法操作简便、效率高；处理后的晶片表面粗糙度会更好，产品良率更高；并且所使用的混合药液中各成分均为常见无机化学品，成本低；因此本发明提供的磷化铟晶片的表面处理方法具有广阔的应用前景。
本发明授权一种磷化铟晶片的表面处理方法在权利要求书中公布了：1.一种磷化铟晶片的表面处理方法，包括以下步骤： a将抛光、化蜡后的磷化铟晶片采用混合药液进行过药处理，得到处理后晶片；所述混合药液由氧化剂溶液、酸溶液和水配制而成；所述氧化剂溶液的浓度为3%~8%；所述酸溶液的浓度为0.28%~0.32%；所述氧化剂溶液、酸溶液和水的体积比为1：0.5~1.5：2~3；所述过药处理的时间为20min~40min；所述混合药液的pH值为0.8~1.2； b将步骤a得到的处理后晶片依次经冲水、甩干，得到清洗检验前的磷化铟晶片。
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