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龙图腾网获悉上海核工程研究设计院有限公司申请的专利一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115408863B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211061565.1，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法是由史涛;周岩;梅其良;黎辉;王梦琪;彭超;郑征;夏春梅;高静;李翔;孙大威;翟良设计研发完成，并于2022-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法，包括建立质子轰击靶核的模型，通过虚拟网格技术统计次级粒子输运过程中的剂量率分布场，同时，使用权重窗生成器得到权重窗下限参数文件；根据剂量场分布得到权重窗下限参数和源偏倚参数，从而使用该参数获得孔道位置处剂量率和基于网格技术的剂量率分布，并进行孔道贯穿辐射屏蔽设计；可以实现质子加速器辐射屏蔽设计中针对强电、弱电、暖通、给排水、工艺系统以及设备等贯穿管道外部的剂量率计算，实现多贯穿件协同设计，提升屏蔽设计的经济性和效率，高效合理的完成质子加速器孔道贯穿的辐射屏蔽分析和设计。

本发明授权一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法在权利要求书中公布了：1.一种质子加速器孔道贯穿辐射屏蔽设计方法，其特征在于，包括： 建立孔道贯穿辐射屏蔽分析的包含几何空间、墙体和孔道贯穿的模型并建立质子轰击靶核的模型； 在质子轰击靶核的模型下进行一步法的质子、中子、光子和电子耦合输运实现质子轰击靶核的物理过程模拟，并进行次级粒子在介质中的输运过程； 通过虚拟网格技术统计次级粒子输运过程中剂量率分布场，同时，使用权重窗生成器得到权重窗下限参数文件；所述使用权重窗生成器得到权重窗下限参数文件的权重窗的网格划分和剂量率的网格划分一致； 根据剂量场分布得到权重窗下限参数和源偏倚参数，将得到的权重窗下限参数输入到权重窗下限参数文件，数学模型如下： 公式一 公式二 式中：wthr,E：权重窗下限参数；SI：平滑因子；Σ：剂量率探测响应的平均截面；r：位置；E：能量；R：剂量率；qbias：源偏倚参数；q0：初始源分布； 建立质子轰击靶核的模型，并进行一步法粒子输运模拟，获得孔道位置处剂量率和基于网格技术的剂量率分布，若得到的孔道位置处剂量率收敛，则采用该孔道位置处剂量率进行孔道贯穿辐射屏蔽设计。

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