深圳市豪鹏科技股份有限公司刘孟获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市豪鹏科技股份有限公司申请的专利电解液和电化学装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119742453B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411942574.0，技术领域涉及：H01M10/0567；该发明授权电解液和电化学装置及电子设备是由刘孟;李枫;于立娟;胡大林;廖兴群设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本电解液和电化学装置及电子设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种电解液和电化学装置及电子设备。电解液包括第一添加剂和第二添加剂，第一添加剂包括含氮杂环酸酐类化合物，第二添加剂包括硼酸酯类化合物，第一添加剂和第二添加剂与正负极材料层之间105≤Ya+YbM*N≤2000，其中，第一添加剂占电解液的质量百分数为Ya％，第二添加剂占电解液的质量百分数为Yb％，正极片上单位面积正极材料层的质量为Mgcm2，负极片上单位面积负极材料层的质量为Ngcm2。本申请提供的方案，能够通过第二添加剂和第一添加剂的配合使用，且添加剂的含量与正极材料层和负极材料层的面密度相适配，实现扩宽第一添加剂的用量，进一步提升电池的高温循环性能的效果。
本发明授权电解液和电化学装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种电解液，其特征在于，包括第一添加剂和第二添加剂，所述第一添加剂包括含氮杂环酸酐类化合物，所述第二添加剂包括硼酸酯类化合物，所述第一添加剂和所述第二添加剂与正负极材料层之间满足如下关系： 105≤Ya+YbM*N≤2000 其中，所述第一添加剂占电解液的质量百分数为Ya%，所述第二添加剂占电解液的质量百分数为Yb%，正极片上单位面积正极材料层的质量为Mgcm2，负极片上单位面积负极材料层的质量为Ngcm2；所述含氮杂环酸酐类化合物的结构式如下： 式1 式1中，X1为C和N原子中的一种，X2为N原子，R1和R2各自独立地选自苯环、氰基、卤素原子、氢原子、C1-C10的烷烃基、C1-C10的不饱和烷烃基、C1-C10的卤代烷烃基、C1-C10的卤代不饱和烷烃基中的一种；0.01≤Ya≤10，0.01≤Yb≤5，0.035≤M≤0.15，0.025≤N≤0.12。
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