芯恩(青岛)集成电路有限公司张瀚文获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利清洗滚刷清洁装置及半导体基片清洁设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223471574U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422704695.3,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型清洗滚刷清洁装置及半导体基片清洁设备是由张瀚文设计研发完成,并于2024-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洗滚刷清洁装置及半导体基片清洁设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种清洗滚刷清洁装置及机台硅片清洁设备,其中清洗滚刷清洁装置包括至少一组可拆卸清洁刷机构和至少一组喷淋清洁机构,可拆卸清洁刷机构和喷淋清洁机构均与清洁滚刷一一对应;可拆卸清洁刷结构包括设置于清洁滚刷下方的固定端以及可拆卸固定于固定端上的清洁刷,清洁刷工作时与其对应清洁滚刷紧密接触;喷淋清洁机构包括液体供给箱以及进液端通过管道与液体供给箱连通的自动喷淋组件,自动喷淋组件包括自动喷头以及设置于自动喷头上的共振器,自动喷淋组件的喷淋方向朝向与其对应的清洁滚刷。本实用新型具有较高的清洁滚刷清洁效率,避免减少滚刷寿命,同时不易造成半导体基片的二次污染。
本实用新型清洗滚刷清洁装置及半导体基片清洁设备在权利要求书中公布了:1.一种清洗滚刷清洁装置,其特征在于,设置于研磨后基片清洁滚刷下方,包括至少一组可拆卸清洁刷机构和至少一组喷淋清洁机构,所述可拆卸清洁刷机构和所述喷淋清洁机构均与所述清洁滚刷一一对应; 所述可拆卸清洁刷结构包括设置于所述清洁滚刷下方的固定端以及可拆卸固定于所述固定端上的清洁刷,所述清洁刷工作时与其对应清洁滚刷紧密接触; 所述喷淋清洁机构包括液体供给箱以及进液端通过管道与所述液体供给箱连通的自动喷淋组件,所述自动喷淋组件包括自动喷头以及设置于所述自动喷头上的共振器,所述自动喷淋组件的喷淋方向朝向与其对应的清洁滚刷。
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