上海华虹宏力半导体制造有限公司张兴洲获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利检查版图中划片槽图形放置的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114429104B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210059209.X，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权检查版图中划片槽图形放置的方法是由张兴洲设计研发完成，并于2022-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本检查版图中划片槽图形放置的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种检查版图中划片槽图形放置的方法，包括：步骤一、确定版图中单体的大小。步骤二、选定一个需要进行搜索的单体，将单体的搜索区域范围扩展到具有12曝光区域尺寸的区域。步骤三、检查所选定的单体是否为重复单体，包括：在版图中检索出会和所选定的单体的搜索区域部分重叠的划片槽图形，当检索到会和选定的所述单体的搜索区域部分重叠的划片槽图形时，所选定的单体为重复单体。步骤四、对重复单体的区域进行提示。本发明能实现自动检查，从而能提高检查效率和节约时间成本，还能对版图中的所有单体实现全面检查以及能提高检查的准确性。
本发明授权检查版图中划片槽图形放置的方法在权利要求书中公布了：1.一种检查版图中划片槽图形放置的方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤一、确定版图中单体的大小； 所述单体对应于一个芯片单元结构；在所述单体的周侧具有划片槽；在所述划片槽上设置有图形结构，所述图形结构为各种标记，各种所述标记中包括套刻标记； 步骤二、选定一个需要进行搜索的所述单体，将所述单体的搜索区域范围扩展到具有12曝光区域尺寸的区域； 步骤三、检查所选定的所述单体是否为重复单体，包括： 在所述版图中检索出会和所选定的所述单体的搜索区域部分重叠的划片槽图形，当检索到会和所选定的所述单体的搜索区域部分重叠的所述划片槽图形时，所选定的所述单体为重复单体； 所述划片槽图形为套刻标记； 步骤四、对所述重复单体的区域进行提示。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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