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龙图腾网获悉南京航空航天大学申请的专利一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118969863B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410960087.0，技术领域涉及：H10F77/20；该发明授权一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法是由黄现礼;杨慧;王涛;何建平设计研发完成，并于2024-07-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法，属于太阳电池制造技术领域，所述方法大大缩短了工艺路线，而且改善了界面接触性能，从而提升了TOPCon电池的光电转换效率。本发明首先对半成品TOPCon电池片‑蓝膜片预处理，然后正面化学沉积Ni‑B合金或背面沉积Ag含P，再利用激光的高能量，使硼或磷扩散形成局部的重掺杂区域，同时形成硅化镍以及背面的银过渡层，改善界面接触性能，有利于提升器件的光电转换效率。

本发明授权一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法在权利要求书中公布了：1.一种TOPCon电池的选择性电沉积栅线制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 对电池片进行预清洗后干燥备用； 在电池片的正面沉积Ni-B合金或在电池片的背面沉积含P的Ag层；沉积的过程为：先在敏化液中浸泡1min，去离子水冲洗15s；然后在活化液中浸泡30s，去离子水冲洗15s；之后进行化学沉积；所述敏化液为氯化亚锡的酸溶液，40gL氯化亚锡溶于40mLL盐酸，现用现配；所述活化液为0.1gL氯化钯溶液；沉积Ni-B合金层的镀液为：硼氢化钠为还原剂，六水氯化镍为主盐，乙二胺为络合剂，其中硼氢化钠1-5gL，六水氯化镍30-40gL，乙二胺15-20mLL，用氢氧化钠调节pH至12以上，沉积温度为50-70oC，沉积时间为3-5min；沉积含P的Ag层的镀液为：20-30gL硝酸银和100-150mLL稀氨水配成银氨溶液，20gL葡萄糖和10gL次亚磷酸钠的混合溶液为还原剂，现配现用，沉积温度为60-70oC，沉积时间为5-10min； 对电池片沉积后的一面的预设区域进行激光掺杂，利用激光的高能量使B或P扩散形成局部的重掺杂区域，同时形成过渡层； 将激光掺杂后的电池片去除多余镀层，清洗后去除电池片表面氧化层；将得到的电池片分别电沉积电极层，热处理后即得到激光掺杂的TOPCon选择性发射极。

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