信利(仁寿)高端显示科技有限公司王瑞生获国家专利权
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龙图腾网获悉信利(仁寿)高端显示科技有限公司申请的专利一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119861525B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510081918.1，技术领域涉及：G03F1/32；该发明授权一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统是由王瑞生;余凤梅设计研发完成，并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统，方法包括提供一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作系统，包括渐进式曝光机、主感光性间隔件及干涉感光性间隔件；渐进式曝光机通过主感光性间隔件向待曝光掩膜版的第一位置进行全曝光，获取第一光刻胶图案；渐进式曝光机通过干涉感光性间隔件向待曝光掩膜版的第二位置进行干涉曝光，获取与第一光刻机图案具有段差的第二光刻胶图案；将曝光后的掩膜版依次进行显影、蚀刻，得到具有段差的第一掩膜图案、第二掩膜图案，获取整体掩膜图案。利用产生的干涉光源获得不同掩膜图案的段差，解决了现有技术中的使用渐进式曝光机获取段差的掩膜制作方法，制作成本高，制作周期长的问题。
本发明授权一种使用渐进式曝光机的新型掩膜制作方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种使用渐进式曝光机的掩膜制作方法，其特征在于，包括： 步骤100、提供一种使用渐进式曝光机的掩膜制作系统，包括渐进式曝光机、主感光性间隔件及干涉感光性间隔件； 步骤200、制作待曝光掩膜版，所述渐进式曝光机通过所述主感光性间隔件向所述待曝光掩膜版的第一位置进行全曝光，获取第一光刻胶图案； 步骤300、所述渐进式曝光机通过所述干涉感光性间隔件向所述待曝光掩膜版的第二位置进行干涉曝光，获取与所述第一光刻胶图案具有段差的第二光刻胶图案； 步骤400、将曝光后的掩膜版依次进行显影、蚀刻，得到具有所述段差的第一掩膜图案、第二掩膜图案，获取整体掩膜图案。
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