华南师范大学龙明珠获国家专利权
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龙图腾网获悉华南师范大学申请的专利锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112635334B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011422549.1，技术领域涉及：H01L21/365；该发明授权锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器是由龙明珠;栾佳宏;周国富设计研发完成，并于2020-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器在说明书摘要公布了：本发明公开了一种锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器，该制备方法包括采用化学气相沉积法制备氧化钼纳米薄膜；将亚锡盐和还原剂加入盐酸溶液中混合制备插层溶液；再将插层溶液滴至氧化钼纳米薄膜上，在50～70℃环境下进行插层处理。以上制备方法操作简单，其中利用锡插层氧化钼，可减少氧化钼的禁带宽度，实现对近红外光子的高效吸收，所制得的锡掺杂氧化钼纳米薄膜体积大且厚度均匀，热稳定性好，可用于制备近红外光电探测器。
本发明授权锡掺杂氧化钼纳米薄膜及其制备方法和近红外光电探测器在权利要求书中公布了：1.一种锡掺杂氧化钼纳米薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、制备氧化钼纳米薄膜，包括：取氧化钼粉末和衬底放置于密闭环境中，所述氧化钼粉末与所述衬底间距放置，并控制所述氧化钼粉末与所述衬底间距为10~15cm，在真空条件下，将所述密闭环境内的温度按照10~20℃min的速度升至680~780℃，保温2~4h，而后冷却至室温； S2、将亚锡盐和还原剂加入浓度为0.2~0.4molL的盐酸溶液中，混合均匀，制得插层溶液；所述还原剂选自酒石酸； S3、将所述插层溶液覆于所述氧化钼纳米薄膜上，在50~70℃环境下进行插层处理，包括：将所述氧化钼纳米薄膜在50~70℃加热，而后将所述插层溶液滴至所述氧化钼纳米薄膜上，进行插层处理，制得锡掺杂氧化钼纳米薄膜； 其中，步骤S1和步骤S2的顺序不限。
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