瓦里安医疗系统粒子治疗有限公司M·席洛获国家专利权
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龙图腾网获悉瓦里安医疗系统粒子治疗有限公司申请的专利磁场集中和/或引导设备和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115428104B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180026722.2，技术领域涉及：H01F7/20；该发明授权磁场集中和/或引导设备和方法是由M·席洛;A·戈得克设计研发完成，并于2021-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本磁场集中和/或引导设备和方法在说明书摘要公布了：一种磁场集中或引导设备可以包括：一个或多个线圈110，以及相对于线圈设置在一个或多个预定位置处的一个或多个箔、带和或体超导体结构120、125。一个或多个超导体结构可以形成一个或多个磁场承载区域。在操作期间，通过一个或多个线圈的电流可以产生在磁场承载区域中被压缩或引导的一个或多个磁场。
本发明授权磁场集中和/或引导设备和方法在权利要求书中公布了：1.一种磁场集中或引导设备，包括： 一个或多个线圈，用以产生一个或多个磁场,所述一个或多个线圈被设置在体积的长度周围；以及 一个或多个超导体结构，所述一个或多个超导体结构被设置在相对于所述一个或多个线圈的一个或多个预定位置处，并且被成形为集中或引导所述一个或多个磁场，所述一个或多个超导体结构被设置在所述体积内， 其中所述设备还包括： 一个或多个线圈孔口，所述一个或多个线圈孔口被配置为允许带电粒子穿过所述一个或多个线圈，进入磁场承载区域，并且在穿过所述磁场承载区域之后通过所述一个或多个线圈离开。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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