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龙图腾网获悉天虹科技股份有限公司申请的专利遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116254516B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111499369.8，技术领域涉及：C23C16/04；该发明授权遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台是由林俊成设计研发完成，并于2021-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器，其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动，使得两个遮挡单元操作在开启状态及遮挡状态。两个遮挡单元的上表面皆设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，用以阻隔污染物沉积在感测区，以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。

本发明授权遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台在权利要求书中公布了：1.一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，包括：一反应腔体，包括一容置空间，该容置空间内具有一靶材； 一承载盘，位于该容置空间内，并包括一承载面用以承载至少一基板； 一第一遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第一遮挡凸部及一第一感测区，其中该第一遮挡凸部及该第一感测区位于该第一遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第一遮挡凸部与该第一感测区相邻，该第一遮挡凸部遮挡于第一感测区与该靶材之间； 一第二遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第二遮挡凸部及一第二感测区，其中该第二遮挡凸部及该第二感测区位于该第二遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第二遮挡凸部与该第二感测区相邻，该第二遮挡凸部遮挡于第二感测区与该靶材之间； 至少一驱动装置，连接该第一遮挡单元及该第二遮挡单元，并分别驱动该第一遮挡单元及该第二遮挡单元朝相反的方向摆动，使得该第一遮挡单元及该第二遮挡单元在一开启状态及一遮挡状态之间切换，其中该遮挡状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元相互靠近，并用以遮挡该承载盘，而该开启状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元之间则形成一间隔空间；及 至少两个光传感器，设置在该反应腔体，分别用以感测该第一遮挡单元的该第一感测区及该第二遮挡单元的该第二感测区，以判断该第一遮挡单元及该第二遮挡单元是否确实操作在该开启状态； 其中该遮挡状态的该第一遮挡凸部及该第二遮挡凸部形成一环状遮挡凸部，而该第一感测区及该第二感测区则形成一环状感测区，该环状感测区位于该环状遮挡凸部的外侧。

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