天津大学王志获国家专利权
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龙图腾网获悉天津大学申请的专利一种利用紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116272371B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310251281.7，技术领域涉及：B01D61/02；该发明授权一种利用紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法是由王志;王金明;李佳源;李旭;王纪孝设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种利用紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法，将支撑膜浸润于含有2‑磺乙基甲基丙烯酸酯添加剂和紫外光引发剂的水相溶液中；将膜浸润于油相溶液中进行界面聚合反应，过程中将膜置于紫外灯下辐照；使用含有甲基丙烯酸正己酯的溶液润洗膜面，之后施加紫外光辐照；将膜置于70～90℃下热处理，制得含2‑磺乙基甲基丙烯酸酯紫外聚合反应产物以及甲基丙烯酸正己酯化学接枝的反渗透膜。此方法所制反渗透膜的H3BO3截留率从83.82％提升至92.47％，NaCl截留率从98.89％提升至99.19％。本发明的制备方法简单高效，易于实施，且能够在保证水通量的前提下，大幅提升所制膜的硼酸截留率。
本发明授权一种利用紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种利用紫外光改性工艺制备高硼酸截留率反渗透膜的方法，其特征是，包括如下过程： 1将支撑膜浸润于含有2-磺乙基甲基丙烯酸酯添加剂和紫外光引发剂的水相溶液中； 2将膜浸润于油相溶液中进行界面聚合反应，过程中将膜置于紫外灯下辐照； 3使用含有甲基丙烯酸正己酯的溶液润洗膜面，之后施加紫外光辐照； 4将膜置于70～90℃下热处理，制得含2-磺乙基甲基丙烯酸酯紫外聚合反应产物以及甲基丙烯酸正己酯化学接枝的反渗透膜。
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