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龙图腾网获悉株式会社爱发科申请的专利簇射板及等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116892017B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310357382.2，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权簇射板及等离子体处理装置是由小林忠正;西方靖设计研发完成，并于2023-04-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本簇射板及等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开一种簇射板及等离子体处理装置。本发明的簇射板包括：等离子体形成表面、气体供给表面、多个气体流路、形成在所述等离子体形成表面上的多个空心阴极狭缝、以及配置在所述多个空心阴极狭缝各自的内部的多个气体喷出口。所述多个空心阴极狭缝以彼此不交叉的方式配置。在所述多个空心阴极狭缝各自的内部开口有所述多个气体流路。所述等离子体形成表面具有多个深度设定区域。在所述多个深度设定区域各自中被设定为在所述厚度方向上的所述多个空心阴极狭缝各自的深度变大。所述多个深度设定区域之中彼此邻接的两个深度设定区域之间的边界和所述多个空心阴极狭缝各自彼此不交叉。

本发明授权簇射板及等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种簇射板，在等离子体处理装置中的腔室内从气体供给空间向等离子体形成空间均匀地供给处理气体，并且成为与阳极电极相对配置的阴极电极，所述簇射板包括： 等离子体形成表面，与所述阳极电极相对且面向所述等离子体形成空间； 气体供给表面，位于所述等离子体形成表面的相反侧且面向所述气体供给空间； 多个气体流路，在所述簇射板的厚度方向上从所述气体供给表面向所述等离子体形成表面连通； 多个空心阴极狭缝，以在所述厚度方向上具有深度的方式形成在所述等离子体形成表面上；以及 多个气体喷出口，配置在所述多个空心阴极狭缝各自的内部，并且在所述等离子体形成表面的整个区域中均等地供给所述处理气体， 所述多个空心阴极狭缝以覆盖所述等离子体形成表面且彼此不交叉的方式配置， 在所述多个空心阴极狭缝各自的内部开口有所述多个气体流路， 所述多个气体喷出口沿着所述多个空心阴极狭缝各自的长度方向形成为一列， 所述多个气体喷出口在所述多个空心阴极狭缝各自的长度方向上，能够向所述多个空心阴极狭缝各自均等地供给所述处理气体， 所述等离子体形成表面具有中心区域、边缘部区域和沿着从所述中心区域朝向所述边缘部区域的方向彼此分割的多个深度设定区域，在所述多个深度设定区域各自中，所述多个空心阴极狭缝的所述深度相同， 而且以在从所述中心区域朝向所述边缘部区域的径向外侧上所述多个空心阴极狭缝的所述深度变大的方式，在所述多个深度设定区域中彼此邻接的两个深度设定区域之中位于一个深度设定区域的所述多个空心阴极狭缝的所述深度与位于另一个深度设定区域的所述多个空心阴极狭缝的所述深度被设定为不同， 所述多个深度设定区域之中彼此邻接的两个深度设定区域之间的边界和所述多个空心阴极狭缝各自彼此不交叉。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社爱发科，其通讯地址为：日本神奈川县；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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