湖南大学;湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)冯波获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南大学;湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)申请的专利一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119002190B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411272089.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法是由冯波;王彪;陈艺勤;黄飞凤;王乾丞;陈曌;陈鸿彬;段辉高设计研发完成，并于2024-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法。其中电子束光刻装备图像发生系统为核心部件，其能够将入射在孔中电子束进行偏转，将聚焦后的电子束流偏转到不同位置，达到在一个写场内不同点曝光的目的；通过控制芯片，利用传输线，将不同的电压加至图像发生系统顶端金属电极上；顶端电极与侧壁电极连通，通过调整加在顶端电极的电压调节侧壁电极电压以控制电场强度，实现对入射电子束的偏转和投影等功能，最终能将束斑投影至写场中的任一位置。
本发明授权一种多电子束光刻装备图像发生系统及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种多电子束光刻装备图像发生系统，其特征在于，包括电子枪准直系统1、束闸2、电子光学系统3及多电子束图像发生系统；所述多电子束图像发生系统与电子枪准直系统1、束闸2、电子光学系统3通过孔轴中心组装；高能电子束经电子枪发出后由电子枪准直系统1准直，再由电子光学系统3进行聚焦后，通过在多电子束图像发生系统的侧壁施加不同的电压而形成电势差，依靠电势差所形成的电场对已经完成收束聚焦的电子束进行偏转，从而达到电子束在同一写场不同位置曝光的目的；不同写场之间的切换由工件台的移动实现；束闸2用以控制电子束曝光开光，仅在需要曝光时打开；所述多电子束图像发生系统由衬底5、衬底正面介质层4、侧壁绝缘层6、侧壁电极扩散阻挡层7、侧壁金属电极8、顶端金属电极9组成；衬底正面介质层4设置于衬底5上，所述顶端金属电极9设置于衬底正面介质层4上，衬底5的侧部为侧壁金属电极8，侧壁金属电极8通过侧壁电极扩散阻挡层7、侧壁绝缘层6与衬底5连接； 所述电子枪准直系统1、束闸2、电子光学系统3与多电子束图像发生系统配套，具有相同的阵列组合及相同孔轴心。
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