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龙图腾网获悉中国人民解放军国防科技大学申请的专利用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置及调节标定方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119269029B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411320300.8，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置及调节标定方法是由刘文广;陈金宝;周琼;闫宝珠;刘鹏飞;张汉伟;张江彬设计研发完成，并于2024-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置及调节标定方法在说明书摘要公布了：本发明为用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置及调节标定方法，属于多孔径成像技术领域。针对目前的测量装置存在体积庞大笨重且价格昂贵等问题，本发明包括安装基板以及光轴偏差调节部件，多孔径成像系统位于光轴偏差调节部件的反射光路一侧，光轴偏差调节部件包括准直光源、多个分光元件、大口径平面反射镜和光斑采集分析器件，利用大口径平面反射镜完全包络多孔径成像系统的光轴，调节大口径平面反射镜，使经过N1反射后的光束返回并经N1透射，再聚焦至聚焦透镜的焦点处，使光斑质心接近面阵光电探测器的中心坐标，同理使其他经Ni反射后的光斑质心均位于与N1光斑质心相同的位置处，从而实现对多孔径成像系统的光轴偏差的标定。

本发明授权用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置及调节标定方法在权利要求书中公布了：1.用于多孔径成像系统光轴偏差的高精度测量装置，其特征在于，包括设置在同一平面上的光轴偏差调节部件1和多孔径成像系统2，多孔径成像系统2位于光轴偏差调节部件1的反射光路的一侧，通过光轴偏差调节部件1对多孔径成像系统2的光轴偏差进行测量与标定； 光轴偏差调节部件1包括准直光源11、多个分光元件12、大口径平面反射镜13和光斑采集分析器件14，其中： 多个分光元件12包括N1、N2…Ni，多个分光元件12之间相互平行且在横向与准直光源11位于同一轴线，其在纵向与多孔径成像系统2位于同一轴线； 准直光源11的一部分出射光束经N1依次透射至N2、…Ni，其另一部分出射光束经N1、N2…Ni反射至多孔径成像系统2； 光斑采集分析器件14与多孔径成像系统2中孔径一21的光轴同轴设置； 大口径平面反射镜13设置于多个分光元件12与多孔径成像系统2之间； 光斑采集分析器件14包括分析部件和采集器，分析部件设置在多个分光元件12远离多孔径成像系统2的一侧，且分析部件的光轴与孔径一的光轴同轴设置，采集器与分析部件之间通信连接； 分析部件包括面阵光电探测器141和聚焦透镜142，聚焦透镜142位于多个分光元件12与面阵光电探测器141之间，面阵光电探测器141与采集器之间通信连接； 多孔径成像系统2的孔径i的光轴相对于孔径一21的偏差为： 式中：分别表示孔径i相对孔径一的光轴的俯仰角和方位角偏差，分别表示孔径一光轴相对分析部件光轴的俯仰角和方位角偏差；分别表示孔径i光轴相对分析部件光轴的俯仰角和方位角偏差。

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