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龙图腾网获悉深圳中科飞测科技股份有限公司申请的专利重复性缺陷的检测方法、装置、系统和可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119650448B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411457787.4，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权重复性缺陷的检测方法、装置、系统和可读存储介质是由陈鲁;张嵩;黄奕秋;田旷达;齐家企设计研发完成，并于2024-10-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本重复性缺陷的检测方法、装置、系统和可读存储介质在说明书摘要公布了：一种重复性缺陷的检测方法、装置、系统和可读存储介质，该方法包括：获取被加工件表面的缺陷以被加工件为位置基准的第一位置信息；以被加工件表面的多个被加工区域中的一个为基准区域，确定被加工件表面的缺陷以基准区域为位置基准的第二位置信息；根据所有被加工区域上的缺陷的第二位置信息，确定以基准区域为位置基准的缺陷密度峰值点；若某个缺陷密度峰值点的预设范围内的缺陷的数量大于或等于重复性缺陷阈值，则判定被加工件存在重复性缺陷。由于重复性缺陷映射至基准区域内会密集分布于某个区域，因此本申请通过缺陷密度来检测重复性缺陷，能够准确有效地检测出被加工件中的重复性缺陷。

本发明授权重复性缺陷的检测方法、装置、系统和可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种重复性缺陷的检测方法，其特征在于，包括： 缺陷位置获取步骤，获取被加工件表面的缺陷以所述被加工件为位置基准的第一位置信息；其中，所述被加工件表面具有多个经特定光透过加工件后而被加工的被加工区域，且多个所述被加工区域能够通过所述被加工件与所述加工件的逐步相对移动而依次被透过所述加工件的特定光加工，所述特定光为可见光、紫外光或极紫外光； 缺陷映射步骤，以其中一个被加工区域为基准区域，对于所述基准区域上的缺陷，根据其第一位置信息确定其以所述基准区域为位置基准的第二位置信息；对于除所述基准区域外的被加工区域上的缺陷，根据其第一位置信息将其映射至所述基准区域的对应位置，根据所述对应位置确定其以所述基准区域为位置基准的第二位置信息； 密集缺陷检测步骤，根据所有被加工区域上的缺陷的第二位置信息，确定以所述基准区域为位置基准的缺陷密度峰值点；根据所有被加工区域上的缺陷的第二位置信息，分别计算各个所述缺陷密度峰值点的预设范围内的缺陷的数量，比较各个所述缺陷密度峰值点的预设范围内的缺陷的数量与预设的重复性缺陷阈值的大小； 判断步骤，若某个缺陷密度峰值点的预设范围内的缺陷的数量大于或等于所述重复性缺陷阈值，则判定所述被加工件存在重复性缺陷，所述重复性缺陷用于指示所述加工件上存在的缺陷。

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