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龙图腾网获悉南方科技大学申请的专利一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119666782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411593592.2，技术领域涉及：G01N21/3586；该发明授权一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法及系统是由丛龙庆;薛占强;许桂珍设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法及系统在说明书摘要公布了：一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法及系统，所述方法包括：将超表面结构放置在成像物体的上方或前方，所述超表面结构包括若干像素单元组成的像素阵列，所述像素单元与所述成像物体的成像单元一一对应且参数一致；将太赫兹光束垂直穿透所述超表面结构和所述成像物体，分别获得超表面太赫兹透射频域光谱和成像物体太赫兹透射频域光谱；构建谐振强度检出限模型，以重构所述成像物体的像素分布，实现所述成像物体的太赫兹单次成像。本申请无需自适应矫正算法和外部复杂的调制解码设备，利用谐振频率重建被测物体图像，减少成像时间，提高采样速度，解决了现有技术中太赫兹单次成像技术的采样速度慢、兼容性低、无法实时成像的问题。

本发明授权一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于超表面结构的太赫兹单次成像方法，其特征在于，包括以下步骤： 将超表面结构放置在成像物体的上方或前方，所述超表面结构包括若干像素单元组成的像素阵列，所述像素单元与所述成像物体的成像单元一一对应且参数一致； 将太赫兹光束垂直穿透所述超表面结构和所述成像物体，分别获得超表面太赫兹透射频域光谱和成像物体太赫兹透射频域光谱； 根据所述超表面太赫兹透射频域光谱和所述成像物体太赫兹透射频域光谱构建谐振强度检出限模型，以重构所述成像物体的像素分布，实现所述成像物体的太赫兹单次成像； 所述像素单元由若干微结构块组成，任意一个微结构块上包括一组二维结构的基于对称性破缺的倾斜椭圆硅柱；所述倾斜椭圆硅柱的倾斜角度为8°~12°； 所述超表面结构的任意一个像素单元在0.55THz~0.75THz的太赫兹频谱范围内只产生一个谐振频率； 所述参数一致包括任意一组对应的所述成像单元与所述像素单元的尺寸相同，且空间位置一致； 所述太赫兹光束垂直穿透所述超表面结构和所述成像物体，分别获得超表面太赫兹透射频域光谱和成像物体太赫兹透射频域光谱，包括以下步骤： 所述太赫兹光束垂直入射并穿透所述超表面结构，获得超表面结构太赫兹透射信号，将所述超表面结构太赫兹透射信号经过傅里叶变换转为所述超表面太赫兹透射频域光谱；其中，每一个所述像素单元在所述超表面太赫兹透射频域光谱中有对应的超表面结构谐振频率； 穿过所述超表面结构的所述太赫兹光束垂直入射并穿透所述成像物体的透光区域，产生成像物体太赫兹透射信号，将所述成像物体太赫兹透射信号经过傅里叶变换转为所述成像物体太赫兹透射频域光谱；其中，每一个所述成像单元有对应的空间信息； 所述根据所述超表面太赫兹透射频域光谱和所述成像物体太赫兹透射频域光谱构建谐振强度检出限模型，以重构所述成像物体的像素分布，实现所述成像物体的太赫兹单次成像，包括以下步骤： 对比所述成像单元和对应的所述像素单元的谐振频率强度差异，构建所述谐振强度检出限模型； 量化所述谐振强度检出限模型的差异，建立判定标准； 根据所述判定标准重构所述成像物体的所述像素分布，实现所述成像物体的图像复原，完成所述太赫兹单次成像。

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