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龙图腾网获悉深圳市新凯来工业机器有限公司申请的专利光源装置及半导体检测设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119864275B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411979130.4，技术领域涉及：H01J65/04；该发明授权光源装置及半导体检测设备是由程治文;丁章浩;程梁设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本光源装置及半导体检测设备在说明书摘要公布了：光源装置及半导体检测设备，光源装置包括激光发生器、汇聚透镜、放电灯室、检测模块和调节模块，激光发生器用于发射激光束，激光束经汇聚透镜后入射到放电灯室的内部，放电灯室内的等离子体在激光束的激发下提供照明光束，检测模块用于获取等离子体的空间信息和照明光束的功率中的至少一个，空间信息包括等离子体的形状、大小和位置信息，调节模块用于根据空间信息和照明光束的功率中的至少一个对激光束的截面能量分布和放电灯室的位置中的至少一个进行调节。使得激光束作用于等离子体时能量转换率更好，可以提高等离子体辐射出的照明光束输出的有效功率。

本发明授权光源装置及半导体检测设备在权利要求书中公布了：1.一种光源装置，其特征在于，包括激光发生器、汇聚透镜、放电灯室、检测模块和调节模块，所述激光发生器用于发射激光束，所述激光束经所述汇聚透镜后入射到所述放电灯室的内部，所述放电灯室内的等离子体在所述激光束的激发下提供照明光束，所述检测模块用于获取所述等离子体的空间信息和所述照明光束的功率中的至少一个，所述空间信息包括所述等离子体的形状、大小和位置信息，所述调节模块用于根据所述空间信息和所述照明光束的功率中的至少一个对所述激光束的截面能量分布和所述放电灯室的位置中的至少一个进行调节； 所述光源装置还包括灯壳和二向色镜，所述灯壳收容所述二向色镜、所述汇聚透镜和所述放电灯室，所述二向色镜用于透过所述激光束，以使所述激光束经所述汇聚透镜后入射到所述放电灯室，所述二向色镜还用于将所述照明光束反射至所述灯壳的出光窗口； 所述调节模块包括光整形器件，所述光整形器件设于所述激光发生器和所述二向色镜之间的传输光路上，所述光整形器件用于根据所述空间信息和所述照明光束的功率中的至少一个调节所述激光束的截面能量分布； 所述光源装置还包括分光镜和第一功率检测器，所述分光镜设于所述光整形器件和所述二向色镜之间的传输光路上，所述第一功率检测器设于所述分光镜背离所述光整形器件的一侧，所述分光镜用于将经所述光整形器件后的一部分所述激光束反射至所述二向色镜，以及用于将经所述光整形器件后的另一部分所述激光束透射入所述第一功率检测器，所述第一功率检测器用于检测透过所述分光镜的所述激光束的功率，所述光整形器件还用于根据所述激光束的功率调节所述激光束的截面能量分布。

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