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龙图腾网获悉株式会社荏原制作所申请的专利镀覆装置以及镀覆方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120239771B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202480004919.X，技术领域涉及：C25D17/02；该发明授权镀覆装置以及镀覆方法是由樋渡良辅;下山正;增田泰之;高桥直人设计研发完成，并于2024-04-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本镀覆装置以及镀覆方法在说明书摘要公布了：对基板的周缘部的镀覆膜厚的混乱进行矫正来提高整个被镀覆面的镀覆膜厚的均匀化。镀覆模块400包含：镀覆槽410，其构成为收容镀覆液；阳极430，其配置于镀覆槽410内；基板支架440，其构成为在使被镀覆面Wf－a朝向下方的状态下保持基板Wf；升降机构443，其构成为使基板支架440升降；旋转机构447，其构成为使基板支架440旋转；遮蔽构件481，其能够遮蔽在阳极430与基板Wf之间形成的电场；以及遮蔽机构485，其构成为将遮蔽构件481配置为在阳极430与基板Wf之间的基准位置、电场遮蔽面积比基准位置大的遮蔽位置以及从阳极430与基板Wf之间退避的退避位置之间切换。

本发明授权镀覆装置以及镀覆方法在权利要求书中公布了：1.一种镀覆装置，其特征在于，包含： 镀覆槽，所述镀覆槽构成为收容镀覆液； 阳极，所述阳极配置于所述镀覆槽内； 基板支架，所述基板支架构成为在使被镀覆面朝向下方的状态下保持基板； 电阻体，所述电阻体配置于所述阳极与所述基板支架之间，具有贯通所述阳极侧和所述基板支架侧的多个孔； 升降机构，所述升降机构构成为使所述基板支架升降； 旋转机构，所述旋转机构构成为使所述基板支架旋转； 遮蔽构件，所述遮蔽构件能够遮蔽在所述阳极与所述基板之间形成的电场；以及 遮蔽机构，所述遮蔽机构构成为将所述遮蔽构件配置为在所述阳极与所述基板之间的基准位置、电场遮蔽面积比所述基准位置大的遮蔽位置、以及从所述阳极与所述基板之间退避的退避位置之间切换， 所述电阻体在与配置于所述遮蔽位置的所述遮蔽构件重叠的动态遮蔽区域，包含：第1区域，所述第1区域具有第1遮蔽率；第2区域，所述第2区域配置于从所述第1区域离开的内侧，具有比所述第1遮蔽率大的第2遮蔽率；和第3区域，所述第3区域配置于所述第1区域与所述第2区域之间，具有比所述第1遮蔽率大且比所述第2遮蔽率小的第3遮蔽率。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社荏原制作所，其通讯地址为：日本；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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