全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120335226B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510827843.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例提供了用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质。该方法包括：在版图中邻近于目标图形布置至少一个亚分辨率辅助图形SRAF，目标图形包括至少一个图形片段；以及对目标图形执行第一阶段光学邻近校正OPC修正，其中在第一阶段OPC修正期间目标图形中的图形片段和与该图形片段相关联的一个或多个SRAF之间的相对位置保持不变。以此方式，可以使SRAF在版图中处于合适的位置，从而确保工艺窗口的最大化，提升产品设计的良率。
本发明授权用于修正掩模图形的方法、设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种用于修正掩模图形的方法，其特征在于，包括： 在版图中邻近于目标图形布置至少一个亚分辨率辅助图形SRAF，所述目标图形包括至少一个图形片段；以及 对所述目标图形执行第一阶段光学邻近校正OPC修正，其中在第一阶段OPC修正期间所述目标图形中的图形片段和与该图形片段相关联的一个或多个SRAF之间的相对位置保持不变。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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