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龙图腾网获悉埃克斯控股(北京)有限公司申请的专利薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120338440B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510803380.0，技术领域涉及：G06Q10/0631；该发明授权薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质是由付锦超;傅慧初;郭宇翔;刘斌;安书墨;张羽霏设计研发完成，并于2025-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质，方法包括：基于设备信息和假设虚拟条件获取各个工艺模块的清洁时间信息；基于加工信息和各个清洁时间信息获取各个工艺模块的空转时间；基于设备信息和加工信息构建ROPN模型，并基于各个工艺模块的空转时间优化ROPN模型；基于优化后的ROPN模型指导薄膜沉积设备的调度；本申请公开的方法，通过计算各工艺模块的空转时间以优化ROPN模型，实现了各个工艺模块清洁时间的错峰安排，有效避免了真空端机械手负载的不均衡现象，显著提升了薄膜沉积设备的生产效率；且基于ROPN模型的周期性调度策略，可确保各个工艺模块的清洁时间持续错峰。

本发明授权薄膜沉积设备的调度方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种薄膜沉积设备的调度方法，其特征在于，包括： 获取设备信息，基于设备信息和预设的假设虚拟条件，通过理论推导的方式获取各个工艺模块的清洁时间信息，所述清洁时间信息包括首次清洁开始时间、结束时间和清洁时长； 获取加工信息，基于加工信息和各个工艺模块的清洁时间信息，通过理论推导的方式获取各个工艺模块的空转时间；具体的，获取加工信息，所述加工信息包括工艺模块的加工周期；选择一工艺模块作为基准模块，并获取与基准模块对应的首次清洁开始时间和清洁时长，所述选择基准模块作为时间参考点，为多模块时间协调建立统一基准；基于首次清洁开始时间和清洁时长计算与基准模块对应的实际开始时间；基于实际开始时间，结合加工周期和清洁时长，利用代数运算推导基准模块的空转时间；设定各个工艺模块的首次清洁结束时间与相邻工艺模块的首次清洁结束时间之间至少间隔一个加工周期，作为间隔原则；基于间隔原则，通过数列规律获取其他工艺模块的空转时间； 基于设备信息和加工信息构建ROPN模型，并基于各个工艺模块的空转时间优化ROPN模型，得到优化ROPN模型； 基于优化ROPN模型指导薄膜沉积设备的调度。

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