运丰(开平)电子制品有限公司刘建辉获国家专利权
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龙图腾网获悉运丰(开平)电子制品有限公司申请的专利一种PCB印刷电路板曝光显影方法、装置及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120386150B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510455416.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种PCB印刷电路板曝光显影方法、装置及系统是由刘建辉;甘良平;谢春雄;刘国林;刘国琪设计研发完成，并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种PCB印刷电路板曝光显影方法、装置及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种PCB印刷电路板曝光显影方法、装置及系统，涉及印刷电路技术领域。该方法包括：获取待处理PCB印刷电路板的各单元区域在曝光过程中的目标光强数据与目标温度数据，目标光强数据包括基板表面光强与曝光光强；基于各基板表面光强与各目标温度数据，分别确定各单元区域的过程稳定参数；基于各单元区域在各个时刻下的曝光光强，分别确定各单元区域的累积曝光剂量；基于各单元区域的过程稳定参数与累积曝光剂量，分别确定各单元区域的最优曝光时间；对各单元区域的最优曝光时间进行动态优化，直至满足曝光终止条件，对待处理PCB印刷电路板进行显影处理。本发明能够改善PCB印刷电路板的制造质量。
本发明授权一种PCB印刷电路板曝光显影方法、装置及系统在权利要求书中公布了：1.一种PCB印刷电路板曝光显影方法，其特征在于，所述方法包括： 获取待处理PCB印刷电路板的各单元区域在曝光过程中的目标光强数据与目标温度数据，所述目标光强数据包括光线到达所述单元区域表面时的基板表面光强与所述单元区域的曝光光强； 基于各所述基板表面光强与各所述目标温度数据，分别确定各所述单元区域的过程稳定参数，所述过程稳定参数用于表征所述单元区域在曝光过程中的稳定情况； 基于各所述单元区域在各个时刻下的所述曝光光强，分别确定各所述单元区域的累积曝光剂量； 基于各所述单元区域的过程稳定参数与各所述单元区域的累积曝光剂量，分别确定各所述单元区域的最优曝光时间； 对各所述单元区域的最优曝光时间进行动态优化，直至满足曝光终止条件的情况下，对所述待处理PCB印刷电路板进行显影处理，得到处理后的目标PCB印刷电路板。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人运丰(开平)电子制品有限公司，其通讯地址为：529300 广东省江门市开平市苍城镇兴园大道58号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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