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龙图腾网获悉新毅东(北京)科技有限公司申请的专利光刻机物面测量方法及光刻机光学系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120445090B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510947747.6，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权光刻机物面测量方法及光刻机光学系统是由张琪;符友银;沈全安;盛昕设计研发完成，并于2025-07-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻机物面测量方法及光刻机光学系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种光刻机物面测量方法及光刻机光学系统，涉及半导体制造技术领域。其中，该方法包括：获取运动台z向干涉仪按照预设频率测量的多个运动台高度，以及调平调焦系统按照预设频率测量的硅片的初始物面高度，其中，预设频率小于或等于预设阈值；基于各测量轮次的运动台高度对各测量轮次下各光斑的测量高度进行误差补偿，得到各测量轮次下各光斑的补偿后高度；根据各测量轮次下各光斑的补偿后高度，得到各光斑的目标高度；对所有的目标高度进行拟合处理，确定硅片的实际面形信息。本申请通过多次测量并结合误差补偿，有效去除由于运动台不稳定带来的系统性误差以及随机误差，提高了调平调焦系统的测量精度以及硅片面形信息的真实性。

本发明授权光刻机物面测量方法及光刻机光学系统在权利要求书中公布了：1.一种光刻机物面测量方法，其特征在于，包括： 获取运动台z向干涉仪在按照预设频率小于或等于预设阈值限制的共同有效信号范围对应的频率区域内测量的多个运动台高度，并获取调平调焦系统在按照所述预设频率小于或等于预设阈值限制的共同有效信号范围对应的频率区域内测量的硅片的初始物面高度，其中，所述预设频率小于或等于预设阈值，所述初始物面高度包括：多个光斑的测量高度； 基于各测量轮次的运动台高度对各测量轮次下各光斑的测量高度进行误差补偿，得到各测量轮次下各光斑的补偿后高度，所述运动台高度为运动台z向干涉仪获取的测量高度，所述补偿后高度表示硅片表面相对于光刻机光学系统的理想焦平面的稳定高度； 根据各测量轮次下各光斑的补偿后高度，得到各光斑的目标高度； 对所有光斑的目标高度进行拟合处理，确定所述硅片的实际面形信息，所述实际面形信息包括焦距信息和倾斜信息； 所述获取调平调焦系统按照所述预设频率测量的硅片的初始物面高度之前，还包括：控制所述调平调焦系统向基础板发射多个光斑，对发射至所述基础板上的多个光斑进行平面一致性检测，若平面一致性检测未通过，则调整所述调平调焦系统的零平面； 所述对发射至所述基础板上的多个光斑进行平面一致性检测，若平面一致性检测未通过，则调整所述调平调焦系统的零平面，包括： 步骤A：从所述调平调焦系统的多个光斑中依次选择一个光斑作为有效光斑；步骤B：移动微动台，以将所述基础板中的预设平坦区域的中心位置移动至所述有效光斑处；步骤C：获取所述调平调焦系统对所述有效光斑进行单点高度测量所得到的单点高度值；步骤D：重复上述步骤A-步骤C，得到各光斑的单点高度值；步骤E：根据各光斑的单点高度值，确定各光斑相对于中心位置的高度差异值，所述中心位置为调平调焦系统坐标系的原点位置，若所述高度差异值大于预设阈值，或，各光斑的高度差异值总和的最大值与最小值之间的差值大于预设阈值，则调整所述调平调焦系统的零平面。

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