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龙图腾网获悉珠海诚锋电子科技有限公司申请的专利一种基于光路技术的掩膜版检测设备及检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120522971B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511028638.0，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权一种基于光路技术的掩膜版检测设备及检测方法是由陈炀;韦尚明;袁鸿昌设计研发完成，并于2025-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光路技术的掩膜版检测设备及检测方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体制造技术领域，且公开了一种基于光路技术的掩膜版检测设备及检测方法，包括光学成像系统、暗场照明系统、反射同轴光照明系统、透射同轴光照明系统和自动对焦系统；其中暗场照明系统被设置在所述光学成像系统的底部区域，暗场照明系统的底部设置有待检测的掩膜版，所述反射同轴光照明系统被设置在所述光学成像系统的侧边区域，透射同轴光照明系统被配置在所述掩膜版的底部区域，本发明通过透射光路采用的是光源、收光透镜、场透镜以及聚光透镜的四级压缩设计，加上配合平面反光镜折叠光路，该总长比柯勒照明系统缩短35%，因此比传统柯勒照明的光路更短，占用空间更少，便于集成和使用。

本发明授权一种基于光路技术的掩膜版检测设备及检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光路技术的掩膜版检测设备，其特征在于：包括光学成像系统、暗场照明系统、反射同轴光照明系统、透射同轴光照明系统和自动对焦系统； 其中暗场照明系统被设置在所述光学成像系统的底部区域，暗场照明系统的底部设置有待检测的掩膜版11，所述反射同轴光照明系统被设置在所述光学成像系统的侧边区域，透射同轴光照明系统被配置在所述掩膜版11的底部区域； 所述反射同轴光照明系统包括明场同轴光照明模组9、第二分光镜12，其中自动对焦系统经由第二分光镜12接入光路； 所述暗场照明系统、反射同轴光照明系统以及透射同轴光照明系统之间相互独立互不干扰，且掩膜版检测设备对掩膜版11进行检测时，具有单独照明以及组合照明两种方式； 所述自动对焦系统包括自动对焦模组8； 所述光学成像系统包括光电探测装置1、消光镜筒2、管镜3、第一分光镜4、物镜转盘5以及物镜7； 所述暗场照明系统包括暗场光导光源6，其中暗场光导光源6与所述物镜7同轴安装并且可调节相对高度，用于提供暗场照明，增强对微小颗粒和划痕的检测能力； 所述暗场光导光源6选自氙灯、高亮度LED及激光驱动光源中的其中一种； 所述明场同轴光照明模组9竖直同轴固定安装在所述第二分光镜12的顶部，用于提供明场照明，所述反射同轴光照明系统通过第一分光镜4连接于光学成像系统内，并与物镜7构成科勒照明系统； 所述透射同轴光照明系统包括透射光照明模组10，其中透射光照明模组10沿光路依次包括光源101、可变光阑102、收光透镜103、场透镜104、平面反光镜105以及聚光透镜106； 所述聚光透镜106被配置在掩膜版11的底部区域，所述光源101选自led点光源、光导光纤光源中的其中一种。

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