南通得安电子材料有限公司陈敬伦获国家专利权
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龙图腾网获悉南通得安电子材料有限公司申请的专利一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120757310B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511272082.X,技术领域涉及:C03C15/00;该发明授权一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法是由陈敬伦设计研发完成,并于2025-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法在说明书摘要公布了:本申请涉及玻璃蚀刻液制备技术领域,特别涉及一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法。按照质量份数,所述适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液包括基底液,改性分散液,调节剂,稳定剂;所述改性分散液的制备方法包括以下步骤:将二硫化钼纳米颗粒与聚维酮加入到乙醇溶液中,超声分散后得到分散液;向所述分散液中加入N‑氨乙基‑3‑氨丙基甲基二甲氧基硅烷,将反应体系的温度升高至60℃,并保持此温度搅拌1h,得到改性分散液。本申请通过提供一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法,以解决相关技术中非氟蚀刻液蚀刻速率较低,且无法满足高透过率和防眩性能性能平衡的问题。
本发明授权一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液及制备方法在权利要求书中公布了:1.一种适用于高透过率防眩玻璃蚀刻液,其特征在于,按照质量份数,其包括: 基底液65~75份,改性分散液25~35份,调节剂0.2~0.4份,稳定剂1.2~1.8份; 所述基底液的制备方法包括: 于35℃下,将氟硅酸镁按照质量比1~2:25的比例溶解于去离子水中,得到溶液; 向所述溶液中加入三乙醇胺,搅拌30min后加入马来酸酐,继续搅拌1h,得到基底液,所述三乙醇胺与去离子水的质量比为0.8~1:50,所述马来酸酐与去离子水的质量比为0.4~0.5:50; 所述改性分散液的制备方法包括以下步骤: 将二硫化钼纳米颗粒与聚维酮加入到乙醇溶液中,超声分散30min后得到分散液,所述二硫化钼纳米颗粒与聚维酮的质量比为0.8~1:2,所述二硫化钼纳米颗粒与乙醇溶液的质量体积比为1g:10mL,所述乙醇溶液的浓度为50wt%; 向所述分散液中加入N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷,将反应体系的温度升高至60℃,并保持此温度搅拌1h,得到改性分散液,所述N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷质量与二硫化钼纳米颗粒质量比为0.8~1:1。
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