上海微世半导体有限公司杭海燕获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微世半导体有限公司申请的专利基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120762384B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511148681.0，技术领域涉及：G05B19/418；该发明授权基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统是由杭海燕;丁波;陈瀚设计研发完成，并于2025-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统在说明书摘要公布了：本发明提供基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统，涉及薄膜制备技术领域，包括数据流形构建模块、非线性参数调控模块、多模态扰动感知模块和拓扑序列重构模块；系统内部设有超维度记忆网络，网络包括工艺参数超体、性能特征超体和自适应遗忘曲线算法，本系统通过多模态扰动感知模块实时监测工艺环境中的真空度骤降、气源纯度波动、材料批次变化等扰动，利用熵源追踪算法快速计算稳定曲率向量并进行动态校正。结合超维度记忆网络的自适应遗忘曲线算法，能够动态管理历史数据，保留核心知识，使系统在面对扰动时能迅速做出反应。
本发明授权基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统在权利要求书中公布了：1.基于持续学习的薄膜制备工艺数字化调节系统，其特征在于：包括数据流形构建模块、非线性参数调控模块、多模态扰动感知模块和拓扑序列重构模块；所述系统内部设有超维度记忆网络，所述网络包括工艺参数超体、性能特征超体和自适应遗忘曲线算法，其中： 所述数据流形构建模块通过多源传感器数据，利用黎曼几何拓扑算法将薄膜制备参数与性能数据映射至高维数据流形，构建并存储配方流形矩阵； 所述非线性参数调控模块基于配方流形矩阵，通过矢量场梯度下降算法优化宏观工艺参数，同时利用流形曲率预测算法模拟薄膜生长过程，预测薄膜特性； 所述多模态扰动感知模块实时监测工艺环境扰动，利用熵源追踪算法计算并生成稳定曲率向量，对系统进行动态校正，确保工艺稳定性； 所述拓扑序列重构模块接收优化参数和性能预测结果，利用分形混沌重构算法动态调整并重组沉积、退火和清洗的工艺步骤，生成并执行自组织配方序列。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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