张厚义获国家专利权
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龙图腾网获悉张厚义申请的专利一种应用于高功率发光器件的散热结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112018595B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010935056.1，技术领域涉及：H01S5/024；该发明授权一种应用于高功率发光器件的散热结构是由张厚义设计研发完成，并于2020-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用于高功率发光器件的散热结构在说明书摘要公布了：本发明公开了一种应用于高功率发光器件的散热结构，包括：表面发射高功率激光的发光器件，所述发光器件为薄层型的发光器件,所述发光器件的一面为发光面,另一面为冷却面，所述发光器件的厚度为A，所述发光器件发光区域的直径为B，A＜B5；快速流动的冷却流体层，所述冷却流体层设置在所述冷却面的下面，用于吸收、传导所述发光器件的热量，且所述冷却流体层与所述冷却面最小距离为C，C＜B5；支撑透镜，设置在所述发光面上用于对所述发光器件支撑和导光，所述支撑透镜的厚度为D，D5A。能够提高高功率发光器件的散热能力，从而达到提升发光器件功率的目的。
本发明授权一种应用于高功率发光器件的散热结构在权利要求书中公布了：1.一种应用于高功率发光器件的散热结构，其特征在于，包括：表面发射高功率激光的发光器件，所述发光器件为薄层型的发光器件,所述发光器件的一面为发光面,另一面为冷却面，所述发光器件的厚度为A，所述发光器件发光区域的直径为B，A＜B5； 快速流动的冷却流体层，所述冷却流体层设置在所述冷却面的下面，用于吸收、传导所述发光器件的热量，且所述冷却流体层与所述冷却面最小距离为C，C＜B5，所述冷却流体层包括支撑台，所述支撑台设有进流道和出流道，所述进流道和出流道上下设置，所述出流道与所述冷却面相贴，所述进流道和出流道之间设有流道孔，所述流道孔朝向所述冷却面，所述冷却面与所述冷却流体层间设有功能层； 支撑透镜，设置在所述发光面上用于对所述发光器件支撑和导光，所述支撑透镜的厚度为D，D5A，所述支撑透镜用于给所述发光器件提供物理支撑，避免所述发光器件被所述冷却流体层运动过程中产生的压力撑破。
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