卢西森斯科技私人有限责任公司亨利库斯·佩特鲁斯·安娜·范登布姆获国家专利权
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龙图腾网获悉卢西森斯科技私人有限责任公司申请的专利二维光波导压力感测器阵列获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115867776B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180043071.8，技术领域涉及：G01L1/24；该发明授权二维光波导压力感测器阵列是由亨利库斯·佩特鲁斯·安娜·范登布姆;安东尼乌斯·马塞勒斯·约瑟夫·科宁设计研发完成，并于2021-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本二维光波导压力感测器阵列在说明书摘要公布了：本公开揭露了一种二维光波导压力感测器阵列，包括两个或多个行光波导；两个或多个列光波导，其中行光波导和列光波导可变形并排列成平面阵列，以在交叉点定义感测器，其中每个交叉点包括行波导中的一个在其交叉点与列波导中的一个接触；其中每个交叉点进一步包括光耦合结构，配置为当压力施加到交叉点时加强波导的弯曲；其中，光耦合结构包括与行或列光波导中的至少一个接触设置的机械光散射材料层；其中，光波导压力感测器阵列被配置为通过向行光波导提供光和测量在每个交叉点耦合到其列光波导的光来感应压力，或反之亦然，并且其中耦合到列光波导的光依赖于施加到作为感测器的交叉点的压力。
本发明授权二维光波导压力感测器阵列在权利要求书中公布了：1.一种二维光波导压力感测器阵列，包括： 两个或多个行光波导； 两个或多个列光波导，其中所述行光波导和所述列光波导是可变形的，并且排列在平面阵列中，以定义交叉点中的感测器，其中每个交叉点包括与所述列光波导中的一个在其交点处接触的所述行光波导中的一个； 其中每个交叉点进一步包括光耦合结构，所述光耦合结构呈贴片形式，所述光耦合结构被配置为当压力施加到所述交叉点时增强波导弯曲度； 其中所述光耦合结构包含与所述行光波导或所述列光波导中的至少一个接触设置的机械光散射材料层； 其中所述光波导压力感测器阵列被配置为通过向所述行光波导提供光和测量在每个交叉点耦合到其列光波导的光来感测压力，或反之亦然，并且其中耦合到所述列光波导的所述光依赖于施加到作为感测器的所述交叉点的所述压力。
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