大庆溢泰半导体材料有限公司苑魁获国家专利权
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龙图腾网获悉大庆溢泰半导体材料有限公司申请的专利一种均匀加入粗砷的下料装备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115959420B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211588061.5，技术领域涉及：B65G23/24；该发明授权一种均匀加入粗砷的下料装备是由苑魁;于会永;冯佳锋;赵中阳;赵春锋设计研发完成，并于2022-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种均匀加入粗砷的下料装备在说明书摘要公布了：一种均匀加入粗砷的下料装备，涉及三氧化二砷加料装置技术领域，包括回型的壳体，壳体的两端为圆弧形，回型壳体伸入到碳化硅炉膛内且与炉膛内壁无接触，壳体内设置有输送装置，输送装置包括两个输送轮和一条输送带，两个输送轮置于壳体的两端，输送带套装在两个输送轮上，输送带与壳体之间存有间距，输送带上设置有推动粗砷物料移动的推料块；壳体的上端带有进料口，壳体下端带有出料口。本发明解决了传统漏斗下料不均匀且将碳化硅炉膛划伤的问题，使用本发明后，不仅实现了均匀加料，还有效的降低了炉膛的划伤，起到的非常积极的实用效果。
本发明授权一种均匀加入粗砷的下料装备在权利要求书中公布了：1.一种均匀加入粗砷的下料装备，包括碳化硅炉膛5，其特征在于：包括回型的壳体4，回型壳体4伸入到碳化硅炉膛5内且与炉膛内壁无接触，壳体4内设置有输送装置，输送装置包括两个输送轮7和一条输送带8，两个输送轮7置于壳体4的两端，输送带8套装在两个输送轮7上，输送带8与壳体4之间存有间距，输送带8上设置有推动粗砷物料移动的推料块6；壳体4的上端带有进料口，壳体4下端带有出料口9； 所述的推料块6为三角形结构，三角形的一个底为输送带8本体，这样即节省了一个底，又能使该底经过输送轮7时变为弧形，完全与输送轮7贴合，避免皮带轮发生松紧颤动；三角形的另两个底一个为板601，一个为伸缩杆602；其中板601的一端铰接在输送带8上，伸缩杆602的一端也铰接在输送带8上，伸缩杆602的另一端伸入到板601的中部，伸入到板601内的伸缩杆602的端部铰接有一根插杆603，板601内开设有插孔，插杆603插入到插孔内，插孔内设置有弹簧604。
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