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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119426115B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411583599.6，技术领域涉及：B05C11/08；该发明授权一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置是由周平;张心罡;郭东明设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置，包含转盘和同步罩。所述同步罩底面上镶嵌金属环，所述同步罩底面上沿圆周均匀固定电磁铁。本发明的电磁铁可在旋转过程中减小吸合力，此时通过直线模组的向上运动，可使得同步罩与转盘在旋转过程中分离，实现腔室打开，进而提高溶液挥发速度，无需等待旋转停止。旋转过程中存在离心力作用，此时提高溶液挥发固化速度，有助于避免基片边缘流体回流，减小边缘效应影响区域面积，提高基片的利用率。本发明的腔室打开后，永磁体可在金属环内产生感应电流，该感应电流将在同步罩与转盘之间产生力矩可避免转盘转速波动，具有较高的转动平稳性，有助于保持成膜的均匀性。

本发明授权一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置在权利要求书中公布了：1.一种具有旋涂过程中同步罩抬升功能的旋涂腔室装置，其特征在于：包含转盘2和同步罩3；所述转盘2上表面上设有密封槽，所述密封槽内安装密封圈21； 所述同步罩3底面上镶嵌金属环32，所述金属环32的内径大于密封圈21的外径；所述转盘2上表面上沿圆周镶嵌互不接触的永磁体23、且相邻永磁体23的极性相反，所述永磁体23构成的圆环内径和外径的平均值与金属环32的内径和外径的平均值相同； 所述同步罩3底面上沿圆周均匀固定电磁铁31，所述电磁铁31构成的圆环内径大于密封圈21的外径； 所述转盘2表面上沿圆周均匀镶嵌导磁材料块22，所述导磁材料块22的数量与电磁铁31数量相同、位置与电磁铁31位置相对应； 所述转盘2通过转盘轴系8连接到转盘轴系轴承座9上，所述转盘轴系轴承座9固定于旋涂机基座1上； 所述同步罩3通过同步罩轴系4连接到同步罩轴系轴承座5上，所述同步罩轴系轴承座5固定于沿竖直方向运动的升降装置6上，所述升降装置6固定于支架7上，所述支架7固定于旋涂机基座1上； 所述旋涂腔室装置闭合的步骤如下： A1、升降装置6向下运动至同步罩3底面与转盘2表面接触； A2、电磁铁31通电； 所述旋涂腔室装置打开的步骤如下： B1、逐渐减小电磁铁31电流； B2、升降装置6向上运动。

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