飞测思凯浦(上海)半导体科技有限公司张鹏斌获国家专利权
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龙图腾网获悉飞测思凯浦(上海)半导体科技有限公司申请的专利一种缺陷检测系统、物镜像差补偿方法和缺陷检测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120432410B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510616752.9,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权一种缺陷检测系统、物镜像差补偿方法和缺陷检测方法是由张鹏斌;徐安妮;周璐阳;郭凇铭;胡诗铭;陈鲁设计研发完成,并于2025-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种缺陷检测系统、物镜像差补偿方法和缺陷检测方法在说明书摘要公布了:本申请公开了一种缺陷检测系统、物镜像差补偿方法和缺陷检测方法。若启动像差补偿模式,将干涉仪接入到系统的光路中,将光学参考件置于系统的屋面上,干涉仪发光陆续经过光调制器件和物镜到达光学参考件,并从光学参考件原路返回直至回射到干涉仪,干涉仪收集到的反射光可以用于确定对系统内光调制器件的调整策略,达到对物镜像差补偿的目的。像差补偿完毕后系统可以回归缺陷检测模式,这时只需将干涉仪从系统的光路中切出,光学参考件从物面移出光路,待测样品移入系统物面。缺陷检测模块便可以基于收集到的反射光实现对待测样品缺陷的检测。模式之间的自由切换支持该系统使用过程中对物镜像差实时补偿,避免物镜像质在使用过程中持续劣化。
本发明授权一种缺陷检测系统、物镜像差补偿方法和缺陷检测方法在权利要求书中公布了:1.一种缺陷检测系统,其特征在于,所述系统具备像差补偿模式和缺陷检测模式两种功能模式;所述系统包括: 干涉仪,光源模块,光调制器件,物镜,光学参考件和缺陷检测模块; 当所述系统启动像差补偿模式时,所述干涉仪接入所述系统的光路中,所述光学参考件位于所述物镜的物面,所述干涉仪发出的光依次经过所述光调制器件和所述物镜到达所述光学参考件,并在所述光学参考件上发生反射,反射光依次经过所述物镜和所述光调制器件后到达所述干涉仪并被所述干涉仪收集;所述干涉仪收集到的反射光用于确定对所述光调制器件的调整策略,以通过调整所述光调制器件补偿所述物镜的波像差; 在所述光调制器件依据所述调整策略进行调整后,所述系统切换至所述缺陷检测模式,所述干涉仪从所述系统的光路中切出,所述光学参考件从所述物面移出,待测样品移入所述物面;所述光源模块发射的光依次经过调整后的光调制器件和所述物镜到达所述待测样品,并在所述待测样品上发生反射,反射光依次经过所述物镜和所述调整后的光调制器件后被所述缺陷检测模块收集;所述缺陷检测模块用于根据收集到的光生成所述待测样品的缺陷检测结果; 所述光调制器件位于所述光源模块与所述物镜的光路之间,并且所述光调制器件位于所述缺陷检测模块与所述物镜的光路之间; 所述系统还包括:分光器件;所述分光器件设置在所述光源模块与所述光调制器件的光路之间,且所述分光器件位于所述缺陷检测模块与所述光调制器件的光路之间;所述光源模块和所述缺陷检测模块分别位于所述分光器件的分光面的第一侧和第二侧; 所述系统还包括:位置可变的第一反射元件;所述干涉仪位于所述分光面的第二侧;所述光学参考件为位置可变的第二反射元件; 当所述系统启动所述像差补偿模式时,所述第一反射元件被配置为从第一位置移动到第二位置,所述第二反射元件被配置为从第三位置移动到第四位置;所述干涉仪发射的光依次经过所述分光器件透射、所述光调制器件反射和所述物镜透射后到达所述第二反射元件,并在所述第二反射元件上发生反射,反射光依次经过所述物镜透射、所述光调制器件反射和所述分光器件透射后到达所述干涉仪,被所述干涉仪收集;其中,所述第一位置位于所述干涉仪与所述分光器件的光路之间,当所述第一反射元件位于所述第一位置时,所述缺陷检测模块和所述分光器件均位于所述第一反射元件的反射面的一侧;所述第二位置和所述第三位置位于所述系统的光路之外;所述第四位置为所述物面的位置。
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