北京理工大学王晓毅获国家专利权
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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115597671B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211329624.9,技术领域涉及:G01F1/688;该发明授权基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器及其制备方法是由王晓毅;刘钟一;谢会开;方明东设计研发完成,并于2022-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于传感器技术领域,具体涉及一种基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器及其制备方法。本发明通过在硅片上依次形成第一柔性基底层、第二柔性基底层、第一热敏电阻、第二热敏电阻和第三热敏电阻。与硅基加工工艺不同,本发明首创性的提出了一种柔性基底的悬浮结构一体式加工工艺。先在空腔处构建牺牲层,在传感层构建完成之后,与硅基直接刻蚀基底不同,本发明采用丙酮洗去牺牲层厚胶的工艺形成悬浮结构。之后剥离硅基底从而形成带有悬浮结构的柔性量热式流速传感器。由于本发明采用一体式加工工艺和双模柔性基底制作传感器及它的悬空和剪纸结构,传感器具有稳定性高,热耗散低,灵敏度高,具有复杂曲面保型贴合的特点。
本发明授权基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种基于剪纸结构的双模柔性量热式流量传感器的制备方法,其特征在于:包括如下步骤: 步骤1:准备一张硅片并清洗; 步骤2:在硅片上旋涂一层第一柔性基底层; 步骤3:在所述第一柔性基底层上旋涂一层光刻胶,利用第一掩模版进行光刻图案化; 步骤4:旋涂一层与第一柔性基底层相同的材料; 步骤5:进行抛磨,使牺牲层厚胶与第一柔性基底层相持平; 步骤6:沉积一层第二柔性基底层; 步骤7:旋涂一层光刻胶,利用第二掩模版进行光刻图案化; 步骤8:真空溅射金属层,丙酮中浸泡剥离;金属选择为铂金属; 步骤9:真空沉积第二柔性基底层; 步骤10:用第二掩模版图案化光刻胶并刻蚀第二柔性基底层,形成剪纸式二维膨胀结构的窗口和牺牲层的腐蚀窗口; 步骤11:释放牺牲层厚胶,形成悬浮结构; 步骤12:剥离硅片,形成整个传感器; 通过在硅片上依次形成第一柔性基底层、第二柔性基底层、第一热敏电阻、第二热敏电阻和第三热敏电阻,以及基于双模基底的剪纸结构和悬空结构以形成量热式流量传感器; 所述第二柔性基底层包括设置于中央上的第一热敏电阻,所述第一柔性基底层包括设置于所述第一热敏电阻两边的第二热敏电阻和第三热敏电阻。
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