北京北方华创微电子装备有限公司杜凤彪获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利聚焦环、承载装置及工艺腔室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119650393B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311204492.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权聚焦环、承载装置及工艺腔室是由杜凤彪;刘钊成;赵婷婷;郝亮设计研发完成，并于2023-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚焦环、承载装置及工艺腔室在说明书摘要公布了：本申请公开了一种聚焦环、承载装置及工艺腔室，涉及半导体领域。一种聚焦环，包括聚焦环主体；至少一个第一气孔，开设在所述聚焦环主体的一端处，至少一个所述第一气孔用于沿所述聚焦环主体的轴向出气；至少一个第二气孔，开设在所述聚焦环主体的内缘处，至少一个所述第二气孔用于沿所述聚焦环主体的径向朝所述聚焦环主体所围成的空间内侧出气；气流通道，设置在所述聚焦环主体内，所述气流通道与所述第一气孔及所述第二气孔分别连通。一种承载装置，包括上述聚焦环。一种工艺腔室，包括上述承载装置。本申请至少能够解决聚焦环被刻蚀等问题。
本发明授权聚焦环、承载装置及工艺腔室在权利要求书中公布了：1.一种聚焦环，应用于半导体工艺设备的工艺腔室，其特征在于，所述聚焦环包括： 聚焦环主体200； 至少一个第一气孔211，开设在所述聚焦环主体200的一端处，至少一个所述第一气孔211用于沿所述聚焦环主体200的轴向出气； 至少一个第二气孔212，开设在所述聚焦环主体200的内缘，至少一个所述第二气孔212用于沿所述聚焦环主体200的径向朝所述聚焦环主体200所围成的空间内侧出气； 气流通道221，设置在所述聚焦环主体200内，所述气流通道221与所述第一气孔211及所述第二气孔212分别连通。
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