深圳市亿道电子科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市亿道电子科技有限公司申请的专利基于离散点平滑的贴边路径生成方法、装置、设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119739154B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411716484.X,技术领域涉及:G05D1/43;该发明授权基于离散点平滑的贴边路径生成方法、装置、设备及存储介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于离散点平滑的贴边路径生成方法、装置、设备及存储介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种基于离散点平滑的贴边路径生成方法、装置、设备及存储介质,涉及路径规划技术领域,包括:根据栅格地图,获取多个边沿栅格;根据各所述边沿栅格中心点、起始点、代价函数以及约束项,得到多个优化点,其中,所述起始点是移动对象的中心点;根据各所述优化点,得到目标轨迹;根据所述目标轨迹和所述起始点,得到运动轨迹,本申请通过求解带约束的代价函数拟合障碍物平面,能够同时解决直线和曲线路沿问题,并且拟合后的曲线在路沿外,保证移动对象追随边沿曲线的时候不会碰撞;使用多项式曲线作为进入、退出贴边的平滑路径,使得移动对象运动平顺,易于调试。
本发明授权基于离散点平滑的贴边路径生成方法、装置、设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种基于离散点平滑的贴边路径生成方法,其特征在于,所述的方法包括: 根据栅格地图,获取多个边沿栅格; 根据各所述边沿栅格中心点、起始点、代价函数以及约束项,得到多个优化点,其中,所述起始点是移动对象的中心点; 根据各所述优化点,得到目标轨迹; 根据所述目标轨迹和所述起始点,得到运动轨迹; 所述根据各所述边沿栅格中心点、起始点、代价函数以及约束项,得到多个优化点,包括: 选取一个边沿栅格中心点作为第一操作点; 根据与所述第一操作点的相邻所述边沿栅格中心点的向量变化量,得到第一代价项; 根据所述起始点和所述边沿栅格中心点的距离,得到第二代价项; 根据所述第一代价项、所述第二代价项、第一权重系数以及第二权重系数建立代价函数; 建立从所述起始点到所述第一操作点的线段,将所述线段作为所述代价函数的约束项; 基于所述约束项和所述代价函数计算总代价,选择总代价最小对应的坐标作为优化点的坐标; 依次对各所述边沿栅格中心点执行上述步骤,得到多个所述优化点。
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