宁波博雅聚力新材料科技有限公司庄方东获国家专利权
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龙图腾网获悉宁波博雅聚力新材料科技有限公司申请的专利一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119775572B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510141076.4，技术领域涉及：C08G81/00；该发明授权一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法是由庄方东;张鹏飞设计研发完成，并于2023-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法，所述低介电常数的聚酰亚胺薄膜的制备原料包括二酐单体、二胺单体和聚环氧烷封端剂，所述聚环氧烷封端剂包括氨基封端聚环氧烷和或酐基封端聚环氧烷，所述氨基封端聚环氧烷具有式Ⅰ所示结构，所述酐基封端聚环氧烷具有式Ⅱ所示结构，采用上述特定结构的氨基封端聚环氧烷和或酐基封端聚环氧烷作为封端剂，搭配二胺单体和二酸单体，可以使制备得到的聚酰亚胺薄膜具有孔洞结构，进而具有较低的介电常数，适合在微电子领域应用。
本发明授权一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低介电常数的聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 1在氮气保护下，均苯四甲酸二酐、聚环氧烷封端剂M2和4,4'-二氨基二苯醚在二甲基乙酰胺中反应，获得聚酰胺酸浆料； 2将步骤1得到的聚酰胺酸浆料通过离心脱泡后，均匀地涂覆到玻璃板上，随后在阶段式升温的条件下进行加热处理，得到所述聚酰亚胺薄膜； 所述聚环氧烷封端剂M2的数均分子量为1120，具体结构如下所示： ； 所述阶段式升温的方式为将体系第一次升温至75~81℃，保温16~20min，第二次升温至140~150℃，保温16~20min，第三次升温至210~220℃，保温16~20min，第四次升温至290~300℃，保温16~20min，最后升温至440~450℃，保温30~40min。
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