浙江森永光电设备有限公司项伟琪获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江森永光电设备有限公司申请的专利一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120395675B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510767058.7,技术领域涉及:B24B37/08;该发明授权一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机是由项伟琪;朱枫;鞠磊;余嘉民;何云龙;李成昊设计研发完成,并于2025-06-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机,属于碳化硅用抛光技术领域,设置有用于支撑的抛光机基座,且抛光机基座侧面安装有控制箱;包括:抛光液筒,安装于所述抛光机基座上侧,且抛光机基座上侧安装有抛光室,并且抛光室的上侧安装有防尘室,同时抛光液筒设置有冷却循环机构。该基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机,设置有旋转板组装的吸附座进行等角度设置,可实现自动上下料,有效地提升碳化硅晶片抛光效率,满足产线自动化的要求,并搭配成熟的机械手机构,可以完成产线自动化加工,并保证抛光件不产生台阶,且抛光时配合径向来回移动,提高产品的表面精度。
本发明授权一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机在权利要求书中公布了:1.一种基于CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机,设置有用于支撑的抛光机基座,且抛光机基座侧面安装有控制箱; 其特征在于,包括: 抛光液筒,安装于所述抛光机基座上侧,且抛光机基座上侧安装有抛光室,并且抛光室的上侧安装有防尘室,同时抛光液筒设置有冷却循环机构; 支撑板,安装于所述抛光室的内表面,且支撑板上侧转动连接有齿轮座,并且齿轮座的外表面啮合连接有驱动齿轮,同时齿轮座上侧安装有旋转板,并且旋转板的内表面开设有通孔,同时旋转板设置有限位滑动机构; 所述限位滑动机构包括旋转板上表面安装的滑轨,且滑轨的上表面滑动连接有移动座,并且移动座的上表面安装有安装座,同时安装座的外表面侧面安装有伺服电机一,且伺服电机一的表面转动连接有主动齿轮,并且主动齿轮的外表面啮合连接有从动齿轮,并将从动齿轮定位旋转在安装座上方;所述旋转板通过滑轨与移动座构成限位移动结构; 所述从动齿轮的内表面安装有吸附管,且吸附管的上表面旋转连接有转接头,并且吸附管的下表面安装有吸附座,同时吸附座的内表面开设有真空吸附孔,且吸附座的外表面侧面设置有导流管,并将导流管定位安装在旋转板的下表面; 所述齿轮座的上表面安装有支撑座,且支撑座的上表面安装有伺服电机二,并且伺服电机二的下表面通过螺纹杆螺纹连接有旋转件,并将旋转件限位滑动在支撑座的内表面,同时旋转件的外表面转动连接有连杆,且连杆的下侧转动连接有固定件,并将固定件安装在移动座的外表面; 所述齿轮座与支撑座的下表面嵌入式安装设置,且支撑座通过伺服电机二与旋转件构成限位升降结构,并且旋转件通过连杆和固定件与移动座构成推动结构。
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