华芯程(杭州)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120722646B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511225718.5,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了:本申请公开了一种光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备,其中,该光学邻近效应修正方法包括根据预设规则在通孔层的目标图形周围放置SRAF;对目标图形进行OPC修正,生成初始修正图形;获取每个目标图形与对应初始修正图形之间的第一距离,以及每个目标图形与对应SRAF之间的第二距离;将第一距离和第二距离作为优化变量,并基于第一距离构建目标函数;基于目标函数,采用遗传算法对优化变量进行迭代求解,得到目标参数组合;根据目标参数组合生成修正版图。本申请实施例可以提高SRAF放置与OPC修正的效率。
本发明授权光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种光学邻近效应修正方法,其特征在于,包括: 根据预设规则在通孔层的目标图形周围放置SRAF; 对所述目标图形进行OPC修正,生成初始修正图形; 获取每个所述目标图形与对应初始修正图形之间的第一距离,以及每个所述目标图形与对应SRAF之间的第二距离; 将所述第一距离和所述第二距离作为优化变量,并计算每个所述第一距离所对应的边缘放置误差值; 将所有所述边缘放置误差值之和定义为目标函数; 基于所述目标函数,采用遗传算法对所述优化变量进行迭代求解,得到目标参数组合; 根据所述目标参数组合生成修正版图。
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