苏州苏大维格科技集团股份有限公司徐越获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州苏大维格科技集团股份有限公司申请的专利微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114114477B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010897334.9,技术领域涉及:G02B3/00;该发明授权微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备是由徐越;罗明辉;乔文;朱鸣;陈林森设计研发完成,并于2020-08-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备在说明书摘要公布了:本发明公开了一种微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备,包括基底层,以及形成于所述基底层表面的匀光层,所述匀光层背离所述基底层的表面形成有透镜阵列组,若干个微透镜错位排布形成所述透镜阵列组,所述透镜阵列组在所述匀光层的表面形成连续的面,所述若干个微透镜多组相邻排列,相邻两组形成一个间隔组,相邻两组中的一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变大的规律排布,相邻两组中的另一组的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变小的规律排布。本发明所述的匀光结构由不同口径及形状的微透镜组成,破坏微透镜阵列的周期性,使激光阵列通过该匀光结构匀光后消除干涉现象,同时降低纳米压印的加工难度。
本发明授权微型微透镜阵列匀光结构及其制作方法、TOF镜头及设备在权利要求书中公布了:1.一种微型微透镜阵列匀光结构,其特征在于,包括基底层,以及形成于所述基底层表面的匀光层,所述匀光层背离所述基底层的表面形成有透镜阵列组, 若干个微透镜错位排布形成所述透镜阵列组,所述透镜阵列组在所述匀光层的表面形成连续的面, 所述若干个微透镜多组相邻排列,相邻两列形成一个间隔组,相邻两列中的一列的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变大的规律排布,相邻两列中的另一列的微透镜的曲率半径按照从中间向两端逐渐变小的规律排布; 若相邻两列中的一列的微透镜的数量为N个,且所述相邻两列中的另一列的微透镜的数量为M个, 则,当NM时,有M个微透镜的列的透镜曲率半径大于有N个微透镜的列的透镜曲率半径; 当NM时,有M个微透镜的列的透镜曲率半径小于有N个微透镜的列的透镜曲率半径; 其中,M、N的取值包括2~10以内的整数,且M、N的取值是相邻的整数; 两个所述间隔组之间的距离由目标要求形成的光斑形状以及每个所述间隔组中微透镜的最大曲率半径和最小曲率半径决定。
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