细美事有限公司桑特·阿雷克赖恩获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114695058B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111633984.3,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由桑特·阿雷克赖恩;具滋明设计研发完成,并于2021-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了:本发明构思提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括工艺腔室,在该工艺腔室中具有处理空间;支承单元,其用于在所述工艺腔室中支承基板;气体供应单元,其用于将工艺气体供应到所述工艺腔室内部;以及等离子体产生单元,其用于从所述工艺气体产生等离子体,其中,所述等离子体产生单元包括:顶部电极,其设置在所述基板上方;底部电极,其设置在所述基板下方;边缘电极,其设置在围绕所述基板的边缘处;三个高频电源,其将高频功率施用至所述底部电极;以及边缘阻抗控制电路,其连接至所述边缘电极。
本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了:1.一种基板处理装置,所述基板处理装置包括: 工艺腔室,在所述工艺腔室中具有处理空间; 支承单元,所述支承单元用于在所述工艺腔室中支承基板; 气体供应单元,所述气体供应单元用于将工艺气体供应到所述工艺腔室内部;以及 等离子体产生单元,所述等离子体产生单元用于从所述工艺气体产生等离子体, 其中,所述等离子体产生单元包括: 顶部电极,所述顶部电极设置在所述基板上方; 底部电极,所述底部电极设置在所述基板下方; 边缘电极,所述边缘电极设置在围绕所述基板的边缘处; 三个高频电源,所述高频电源将高频功率施用至所述底部电极,所述三个高频电源包括:具有100kHz至400kHz之间的范围的第一频率电源;具有2MHz至10MHz之间的范围的第二频率电源;以及具有60MHz或更高的范围的第三频率电源;以及 边缘阻抗控制电路,所述边缘阻抗控制电路连接至所述边缘电极并且包括一个或多个陷波滤波器以及可变电容器,所述可变电容器串联连接至所述一个或多个陷波滤波器。
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